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フェライト薄膜の生成とその反応機構に関する研究

フェライト薄膜の生成とその反応機構に関する研究
铁氧体薄膜的形成及其反应机理研究
批准号：
X00090----955212
负责人：
松下 徹
金额：
$1.09万
依托单位：
Hokkaido University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
财政年份：
1974
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1974 至 --
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-X00090----955212/
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塗布法による透明導電性酸化スズ薄膜の作製と性質
  • 批准号：
    58208001
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Special Project Research
  • 资助金额：
    $1.02万
  • 财政年份：
    1983
  • 负责人：
    松下 徹
  • 依托单位：
    Hokkaido University
塗布法による透明導電性SnO_2薄膜の作製に関する研究
  • 批准号：
    57216001
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Special Project Research
  • 资助金额：
    $0.96万
  • 财政年份：
    1982
  • 负责人：
    松下 徹
  • 依托单位：
    Hokkaido University
ニオブ酸アルカリ(Li, K)の焼結に関する研究
  • 批准号：
    56470057
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
  • 资助金额：
    $5.18万
  • 财政年份：
    1981
  • 负责人：
    松下 徹
  • 依托单位：
    Hokkaido University
無機結晶材料の合成とその応用
  • 批准号：
    X00050----535037
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Co-operative Research (A)
  • 资助金额：
    $4.67万
  • 财政年份：
    1980
  • 负责人：
    松下 徹
  • 依托单位：
    Hokkaido University