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フェライト薄膜の生成とその反応機構に関する研究

铁氧体薄膜的形成及其反应机理研究

基本信息

批准号：
X00090----955212
负责人：
松下徹
金额：
$ 1.09万
依托单位：
Hokkaido University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
财政年份：
1974
资助国家：
日本
起止时间：
1974 至无数据
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-X00090----955212/
关键词：

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项目成果

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