Confocal DC/RF Magnetron-Sputter-System

共焦DC/RF磁控溅射系统

基本信息

  • 批准号:
    515777855
  • 负责人:
  • 金额:
    --
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    德国
  • 项目类别:
    Major Research Instrumentation
  • 财政年份:
    2023
  • 资助国家:
    德国
  • 起止时间:
    2022-12-31 至 无数据
  • 项目状态:
    未结题

项目摘要

Confocal sputtering (co-sputtering) is a physical vapor deposition (PVD) processes, which allows for deposition of functional heterostructures by means of cathode sputtering using multiple confocally arranged sputter sources. Confocal sputtering differs from classical sputtering in that several sputter sources are operated in simultaneously. Within the scope of this proposal, the procurement of a DC/RF sputtering system with confocally arranged cathodes is requested for the implementation of innovative research projects. Research of the Chair of Micro- and Nanoelectronics is focused on novel semiconducting and functional thin-films and low-dimensional materials, which find application in novel electronic devices, information technology, sensor technology and micro- and nanosystems. The co-sputter system will be an integral part of the technology required to carry out innovative research projects ranging from fundamental to applied science. Unlike conventional sputtering processes, co-sputtering allows not only the sequential deposition of different material layers but also a continuous change of the layer composition with high flexibility. In combination with inert gases, the use of reactive gases such as oxygen or nitrogen offers the possibility of depositing thin layers of oxides and/or nitrides. This combination of process parameters opens up completely new possibilities in the deposition of innovative and functional thin-films. Within the context of future-oriented research projects, heterostructures based on transition metal oxides with tunable stoichiometry and defect density are to be realized. Such material systems find application in the field of novel nanostructured sensors, thermo- and pyroelectrics as well as plasmonics. Furthermore, co-sputtering allows the fabrication of thin-films with complex dopant profiles and in situ controllable dopant concentration, which cannot be realized by classical doping methods. In this way, nanoionic processes can be used in highly integrated memristors for applications in the field of neuromorphics. Within the scope of this proposal, research projects will also be carried out by other users from the departments of electrical engineering and information technology as well as physics within the TU Dortmund and in the future also within the Research Alliance Ruhr. In this way, the deposition system will be a key tool for excellent cross-faculty projects and forms the basis for further interdisciplinary synergies in the medium term.
共焦溅射(共溅射)是一种物理气相沉积(PVD)工艺,其允许通过使用多个共焦布置的溅射源的阴极溅射来沉积功能异质结构。共焦溅射与经典溅射的不同之处在于多个溅射源同时操作。在本提案的范围内,要求采购一个阴极共焦排列的直流/射频溅射系统,以实施创新研究项目。微电子和纳米电子学主席的研究重点是新型半导体和功能薄膜以及低维材料,这些材料在新型电子器件,信息技术,传感器技术以及微和纳米系统中得到应用。共溅射系统将成为开展从基础科学到应用科学的创新研究项目所需技术的组成部分。与传统的溅射工艺不同,共溅射不仅允许不同材料层的顺序沉积,而且还允许具有高灵活性的层组成的连续变化。与惰性气体结合,使用反应性气体如氧气或氮气提供了沉积氧化物和/或氮化物薄层的可能性。这种工艺参数的组合为创新和功能薄膜的沉积开辟了全新的可能性。在面向未来的研究项目的背景下,异质结构的过渡金属氧化物与可调的化学计量和缺陷密度的基础上实现。这样的材料系统在新型纳米结构传感器、热电和等离子体领域中找到应用。 此外,共溅射允许制造具有复杂掺杂剂分布和原位可控掺杂剂浓度的薄膜,这不能通过经典掺杂方法实现。以这种方式,纳米离子工艺可以用于高度集成的忆阻器,用于神经形态学领域的应用。在此建议的范围内,研究项目也将由多特蒙德工业大学电气工程和信息技术系以及物理系的其他用户进行,未来也将在鲁尔研究联盟内进行。通过这种方式,沉积系统将成为优秀跨学院项目的关键工具,并形成中期进一步跨学科协同作用的基础。

项目成果

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  • 发表时间:
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知道了