Deposition of BNC coatings on polymers by RF-PACVD using metallo-organic precursors

使用金属有机前体通过 RF-PACVD 在聚合物上沉积 BNC 涂层

基本信息

项目摘要

In dem beantragten Vorhaben soll die Abscheidung von BCN-Schichten auf Kunststoffsubstraten mittels HF-Plasma-CVD (Hochfrequenz-PACVD) bei niedrigen Beschichtungstemperaturen grundlegend untersucht werden. Zur Realisierung einer Temperatur unter 150 °C werden bororganische Spendermedien im Beschichtungsprozeß eingesetzt. Die Untersuchungen haben das Ziel, die Einflüsse der Beschichtungsparameter auf die Schichtbildung und das Schichtwachstum und damit auf die Eigenschaften der abgeschiedenen BCN-Schichten zu klären. Diese Ergebnisse dienen im weiteren der gezielten Schicht- und Prozeßoptimierung des HF-Plasma-CVD-Prozesses bei niedrigen Temperaturen. Zur Analyse des Plasmazustandes wird die optische Emmissionsspektroskopie als in situ-Plasmadiagnostik eingesetzt. Die abgeschiedenen BCN-Schichten werden sowohl hinsichtlich des Aufbaus der Struktur und der Zusammensetzung als auch hinsichtlich der technologischen Eigenschaften, wie Transparenz und Härte, charakterisiert. Die Korrelation der Beschichtungsparameter, der Schichteigenschaften und der Ergebnisse der Plasmadiagnostik führt zu einem tieferen Verständnis der Schichtbildungsmechanismen. Besonderes Interesse gilt hierbei dem Interface Schicht/Substrat, das die Haftfestigkeit der Schichten wesentlich bestimmt. Bei dem koreanischen Partner werden Kohlenstoffschichten im Plasma CVD abgeschieden. In Zusammenarbeit mit dem koreanischen Partner werden die Mechanismen der Schichthaftung analysiert und darauf aufbauend die Haftfestigkeit der Schichten optimiert.
最后,我们致力于开发新产品,但我们很乐意介绍公司为确保公司在未来拥有强大业务的努力。我们很乐意介绍公司的努力,以确保很难理解情况。我们很乐意介绍公司的努力,以确保很难理解情况。我们很乐意介绍公司的努力,以确保很难理解情况。我们很乐意介绍公司的努力,以确保很难理解情况。我们很乐意分享使用公司自己独特的环境创建新产品的过程。 Die Schichtbildung und das Schichtwachstum und Damit Auf Die eigenschaften der abgeschiedenen bcn-schichten schichtenzuKlärären。 diese ergebnisse dienen im weiteren der der gezielten schicht- undprozeßoptimierungdes hf-plasma-cvd-prozesses bei niedrigen温度。 Zur分析des plasmazustandes wird die optische emmissionsspektroskopie als on sotu-plasmadiagnostik eingesetzt。模糊的ABGESCHIEDENEN BCN-SCHICHTEN WERDEN SOWOHL HINSICHTLICH DES AUFBAUS dES dER ZUSAMMENSETZUNG ALS ALS AUCH auch hinsichtlich der Technologischen eigenschaften,wie transparenz undhrte,carakterisiert。 Die korralation der beschichtungsparameter,der Schichteigenschaften ungebnisse der plasmadiagnostikführtZu Einem tieferenverständnisder Schichtbildungsmechanismen。 besonderes Interesse gilt hierbei dem界面schicht/substrat,das die haftfestigkeit der schichten wesentlich bestimmt。 Bei dem dem韩国人合作伙伴Werden Kohlenstoffschichten im等离子CVD ABGESCHIEDEN。在Zusammenarbeit中,Mitt Dem dem韩国人合作伙伴Werden Die机构Der Schichthafung分析和Darauf Aufbauend Die Haftfestigkeit der Schichten Optimirt。

项目成果

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