Deposition of BNC coatings on polymers by RF-PACVD using metallo-organic precursors

在dem beantragten Vorhaben soll die Abscheidung von BCN-Schichten auf kunststoff衬底mitels高频等离子体cvd （Hochfrequenz-PACVD）被驱动的beschichtungstren grundunsucht werden。在150°C以下的温度下，制备了bororganische Spendermedien在Beschichtungsprozeß eingesetzt。Die Untersuchungen haben das Ziel， Die einflsse der beschchtung参数of Die schichhtbilung and das Schichtwachstum and damit auf Die Eigenschaften der abgeschiedenen BCN-Schichten zu klären。研究了高温下高频等离子体- cvd过程的动力学和动力学特性。等离子体等离子体的光谱分析——等离子体诊断技术研究进展。2 . Die abgeschiedenen BCN-Schichten werden sowohl hinsichtlich des Aufbaus der strucktur and der Zusammensetzung - auchhtlich der technischen Eigenschaften, wie Transparenz und Härte, characterterisiert。[2] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1]基于Interesse gilt的界面/基片结构，基于hafffestikeit的界面/基片结构。北京等离子体CVD技术合作伙伴。在Zusammenarbeit mitdem koreanischen Partner werden die Mechanismen der Schichthaftung analysis和darauf aufbauenddie hafstekeit der schichtenoptimiert。

In dem beantragten Vorhaben soll die Abscheidung von BCN-Schichten auf Kunststoffsubstraten mittels HF-Plasma-CVD (Hochfrequenz-PACVD) bei niedrigen Beschichtungstemperaturen grundlegend untersucht werden. Zur Realisierung einer Temperatur unter 150 °C werden bororganische Spendermedien im Beschichtungsprozeß eingesetzt. Die Untersuchungen haben das Ziel, die Einflüsse der Beschichtungsparameter auf die Schichtbildung und das Schichtwachstum und damit auf die Eigenschaften der abgeschiedenen BCN-Schichten zu klären. Diese Ergebnisse dienen im weiteren der gezielten Schicht- und Prozeßoptimierung des HF-Plasma-CVD-Prozesses bei niedrigen Temperaturen. Zur Analyse des Plasmazustandes wird die optische Emmissionsspektroskopie als in situ-Plasmadiagnostik eingesetzt. Die abgeschiedenen BCN-Schichten werden sowohl hinsichtlich des Aufbaus der Struktur und der Zusammensetzung als auch hinsichtlich der technologischen Eigenschaften, wie Transparenz und Härte, charakterisiert. Die Korrelation der Beschichtungsparameter, der Schichteigenschaften und der Ergebnisse der Plasmadiagnostik führt zu einem tieferen Verständnis der Schichtbildungsmechanismen. Besonderes Interesse gilt hierbei dem Interface Schicht/Substrat, das die Haftfestigkeit der Schichten wesentlich bestimmt. Bei dem koreanischen Partner werden Kohlenstoffschichten im Plasma CVD abgeschieden. In Zusammenarbeit mit dem koreanischen Partner werden die Mechanismen der Schichthaftung analysiert und darauf aufbauend die Haftfestigkeit der Schichten optimiert.