Deposition of BNC coatings on polymers by RF-PACVD using metallo-organic precursors

使用金属有机前体通过 RF-PACVD 在聚合物上沉积 BNC 涂层

• 批准号: 5160316
• 负责人: Professor Dr.-Ing. Kyong-Tschong Rie
• 金额: --
• 依托单位: Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik (IST)
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Research Grants
• 财政年份: 1999
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 1998-12-31 至 2001-12-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/5160316?language=en
• 关键词: Deposition; BNC; coatings; polymers; RF

In dem beantragten Vorhaben soll die Abscheidung von BCN-Schichten auf Kunststoffsubstraten mittels HF-Plasma-CVD (Hochfrequenz-PACVD) bei niedrigen Beschichtungstemperaturen grundlegend untersucht werden. Zur Realisierung einer Temperatur unter 150 °C werden bororganische Spendermedien im Beschichtungsprozeß eingesetzt. Die Untersuchungen haben das Ziel, die Einflüsse der Beschichtungsparameter auf die Schichtbildung und das Schichtwachstum und damit auf die Eigenschaften der abgeschiedenen BCN-Schichten zu klären. Diese Ergebnisse dienen im weiteren der gezielten Schicht- und Prozeßoptimierung des HF-Plasma-CVD-Prozesses bei niedrigen Temperaturen. Zur Analyse des Plasmazustandes wird die optische Emmissionsspektroskopie als in situ-Plasmadiagnostik eingesetzt. Die abgeschiedenen BCN-Schichten werden sowohl hinsichtlich des Aufbaus der Struktur und der Zusammensetzung als auch hinsichtlich der technologischen Eigenschaften, wie Transparenz und Härte, charakterisiert. Die Korrelation der Beschichtungsparameter, der Schichteigenschaften und der Ergebnisse der Plasmadiagnostik führt zu einem tieferen Verständnis der Schichtbildungsmechanismen. Besonderes Interesse gilt hierbei dem Interface Schicht/Substrat, das die Haftfestigkeit der Schichten wesentlich bestimmt. Bei dem koreanischen Partner werden Kohlenstoffschichten im Plasma CVD abgeschieden. In Zusammenarbeit mit dem koreanischen Partner werden die Mechanismen der Schichthaftung analysiert und darauf aufbauend die Haftfestigkeit der Schichten optimiert.

在此基础上，采用高频等离子体化学气相沉积（Hochfrequenz-PACVD）技术对BCN-Schichten基片进行了韦尔登。在150 °C以下的温度下实现韦尔登有机物在热处理过程中的消耗。这些研究表明，语言参数对语言教育和语言学习的影响，以及对BCN语言特征的影响。该结果在较低温度下对HF-等离子体-CVD-工艺进行了适当的调整和优化。对等离子体的分析是一种原位等离子体诊断的光学发射光谱。BCN-Schichten韦尔登的结构和组件的结构设计也有其技术特征，如结构和硬件特征。Die Correlation der Beschichtungsparameters，der Schichteigenschaften und der Ergebnisse der Plasmadiagnostik führt zu einem tieferen Verständnis der Schichtbildungsmechanismen.由于在界面上有兴趣，所以最好是在界面上进行测试。作为韩国合作伙伴，我们将在等离子体CVD加工中使用韦尔登材料。在与韩国合作伙伴的合作中，韦尔登将分析和评估Schichthaftung的机制，并将优化Schichten的成功。