课题基金 / 基金详情

GaAsの陽極酸化基礎過程とMOS界面特性の研究

GaAsの陽極酸化基礎過程とMOS界面特性の研究
GaAs阳极氧化基本工艺及MOS界面特性研究
批准号:
X00090----355013
负责人:
森谷 明弘
金额:
$0.9万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
财政年份:
1978
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1978 至 1979
关键词:

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エリプソメトリーの高速高分解能化とその応用
  • 批准号:
    59550031
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 资助金额:
    $0.77万
  • 财政年份:
    1984
  • 负责人:
    森谷 明弘
  • 依托单位:
エリプソメトリーの高速化
  • 批准号:
    58550030
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 资助金额:
    $0.45万
  • 财政年份:
    1983
  • 负责人:
    森谷 明弘
  • 依托单位:
光音響分光法による層状半導体の陽極酸化膜成長過程の研究
  • 批准号:
    X00090----555008
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 资助金额:
    $1.22万
  • 财政年份:
    1980
  • 负责人:
    森谷 明弘
  • 依托单位:
反射光変調分光法によるGaAs表面保護膜成長過程の研究
  • 批准号:
    X00095----265095
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (D)
  • 资助金额:
    $0.3万
  • 财政年份:
    1977
  • 负责人:
    森谷 明弘
  • 依托单位: