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反応性イオンプレーティング法による窒化硅素被膜の形成に関する研究

反応性イオンプレーティング法による窒化硅素被膜の形成に関する研究
反应离子镀法形成氮化硅薄膜的研究
批准号:
X00090----555291
负责人:
黄 燕清
金额:
$1.15万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
财政年份:
1980
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1980 至 --
关键词:

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金属水素化物を組み込んだ化学・熱エネルギーの貯蔵に関する材料学的研究
  • 批准号:
    62603551
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 资助金额:
    $1.92万
  • 财政年份:
    1987
  • 负责人:
    黄 燕清
  • 依托单位:
スラリータイプの金属水素化物に関する研究
  • 批准号:
    60040067
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Energy Research
  • 资助金额:
    $1.28万
  • 财政年份:
    1985
  • 负责人:
    黄 燕清
  • 依托单位:
スラリータイプの金属水素化物に関する開発研究
  • 批准号:
    59045130
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Energy Research
  • 资助金额:
    $1.28万
  • 财政年份:
    1984
  • 负责人:
    黄 燕清
  • 依托单位:
メッシメタル‐ニッケル合金の水素吸収量におよぼす不純ガスの影響
  • 批准号:
    58045143
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Energy Research
  • 资助金额:
    $1.28万
  • 财政年份:
    1983
  • 负责人:
    黄 燕清
  • 依托单位: