课题基金 / 基金详情

高磁場領域における化学反応の磁場効果のレーザー二重励起法による研究

高磁場領域における化学反応の磁場効果のレーザー二重励起法による研究
激光双激发法研究高磁场区域磁场对化学反应的影响
批准号：
59740226
负责人：
坂口 喜生
金额：
$0.64万
依托单位：
The Institute of Physical and Chemical Research
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份：
1984
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1984 至 --
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-59740226/
关键词：

项目摘要

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