Magnetic films electroplated in a deep-eutectic-solvent-based plating bath

在深共晶溶剂型电镀浴中电镀磁性薄膜

基本信息

  • 批准号:
    26420274
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 3.16万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2014
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2014-04-01 至 2017-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(32)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Effects of annealing and pulse plating on soft magnetic properties of electroplated Fe-Ni films
  • DOI:
    10.1063/1.4944076
  • 发表时间:
    2016-03
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.6
  • 作者:
    T. Yanai;K. Azuma;K. Eguchi;Yoshimasa Watanabe;T. Ohgai;M. Nakano;H. Fukunaga
  • 通讯作者:
    T. Yanai;K. Azuma;K. Eguchi;Yoshimasa Watanabe;T. Ohgai;M. Nakano;H. Fukunaga
次世代通信機器用磁性膜の開発
下一代通信设备用磁性薄膜的开发
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    T. Yanai;K. Shiraishi;T. Shimokawa;Y. Watanabe;T. Ohgai;M. Nakano;K. Suzuki;and H. Fukunaga;柳井武志;山口知輝;山口知輝;柳井武志;Toshiki Akiyoshi;Toshiki Akiyoshi;Toshiki Akiyoshi;白石洸太郎・秋吉俊貴・東 圭太・渡邊佳正・柳井武志・中野正基・福永博俊;秋吉 俊貴,東 圭太,白石 洸太郎,渡邊 佳正,柳井 武志,中野 正基,福永 博俊;柳井武志,渡邊佳正,中野正基,福永博俊
  • 通讯作者:
    柳井武志,渡邊佳正,中野正基,福永博俊
Soft magnetic films prepared in a Deep Eutectic Solvent
低共熔溶剂中制备的软磁薄膜
  • DOI:
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    K. Shiraishi;K. Azuma;Y. Watanabe;T. Ohgai;T. Yanai;M. Nakano;H. Fukunaga
  • 通讯作者:
    H. Fukunaga
深共晶溶媒を用いて作製したFe-Niめっき膜の諸特性に与えるめっき条件の影響
电镀条件对低共熔溶剂制备Fe-Ni镀膜各种性能的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    大竹秀明,大坪翼,志賀拓麿,塩見淳一郎,鵜殿治彦;Ryoichi Akimoto;柳井 武志
  • 通讯作者:
    柳井 武志
長崎大学 学術研究成果リポジトリ
长崎大学学术研究成果库
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  • 影响因子:
    0
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  • 通讯作者:
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    2024
  • 资助金额:
    $ 3.16万
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  • 批准号:
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  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 3.16万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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  • 批准号:
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  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 3.16万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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  • 批准号:
    23K25133
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 3.16万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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