Magnetic films electroplated in a deep-eutectic-solvent-based plating bath
在深共晶溶剂型电镀浴中电镀磁性薄膜
基本信息
- 批准号:26420274
- 负责人:
- 金额:$ 3.16万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2014
- 资助国家:日本
- 起止时间:2014-04-01 至 2017-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(32)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Effects of annealing and pulse plating on soft magnetic properties of electroplated Fe-Ni films
- DOI:10.1063/1.4944076
- 发表时间:2016-03
- 期刊:
- 影响因子:1.6
- 作者:T. Yanai;K. Azuma;K. Eguchi;Yoshimasa Watanabe;T. Ohgai;M. Nakano;H. Fukunaga
- 通讯作者:T. Yanai;K. Azuma;K. Eguchi;Yoshimasa Watanabe;T. Ohgai;M. Nakano;H. Fukunaga
次世代通信機器用磁性膜の開発
下一代通信设备用磁性薄膜的开发
- DOI:
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:T. Yanai;K. Shiraishi;T. Shimokawa;Y. Watanabe;T. Ohgai;M. Nakano;K. Suzuki;and H. Fukunaga;柳井武志;山口知輝;山口知輝;柳井武志;Toshiki Akiyoshi;Toshiki Akiyoshi;Toshiki Akiyoshi;白石洸太郎・秋吉俊貴・東 圭太・渡邊佳正・柳井武志・中野正基・福永博俊;秋吉 俊貴,東 圭太,白石 洸太郎,渡邊 佳正,柳井 武志,中野 正基,福永 博俊;柳井武志,渡邊佳正,中野正基,福永博俊
- 通讯作者:柳井武志,渡邊佳正,中野正基,福永博俊
Soft magnetic films prepared in a Deep Eutectic Solvent
低共熔溶剂中制备的软磁薄膜
- DOI:
- 发表时间:2015
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:K. Shiraishi;K. Azuma;Y. Watanabe;T. Ohgai;T. Yanai;M. Nakano;H. Fukunaga
- 通讯作者:H. Fukunaga
深共晶溶媒を用いて作製したFe-Niめっき膜の諸特性に与えるめっき条件の影響
电镀条件对低共熔溶剂制备Fe-Ni镀膜各种性能的影响
- DOI:
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:大竹秀明,大坪翼,志賀拓麿,塩見淳一郎,鵜殿治彦;Ryoichi Akimoto;柳井 武志
- 通讯作者:柳井 武志
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Theory and its applications based on density matrix renormalization group for multiple-electronic-state chemical processes
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- 资助金额:
$ 3.16万 - 项目类别:
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- 批准号:
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- 资助金额:
$ 3.16万 - 项目类别:
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- 资助金额:
$ 3.16万 - 项目类别:
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- 批准号:
23K23211 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 3.16万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
分子磁性体を舞台とした磁区エンジニアリングの開拓
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- 批准号:
23K23314 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 3.16万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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- 批准号:
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- 资助金额:
$ 3.16万 - 项目类别:
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