SiO 回転斜方蒸着膜の表面形態と液晶分子配向機構の解明
SiO 回転斜方蒸着膜の表面形態と液晶分子配向機構の解明
SiO旋转倾斜蒸发薄膜表面形貌及液晶分子取向机制的阐明
批准号：
57550034
负责人：
広嶋 綱紀
金额：
$1.47万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
财政年份：
1982
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1982 至 1983
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高耐熱性垂直液晶配向用回転斜方蒸着膜の表面形態と液晶配向機構の解明
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批准号：56550037
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项目类别：Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额：$0.64万
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财政年份：1981
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负责人：広嶋 綱紀
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依托单位：