光崩壊機能をもつ高分子の合成およびレジスト材料への応用
光崩壊機能をもつ高分子の合成およびレジスト材料への応用
具有光降解功能的聚合物的合成及其在抗蚀材料中的应用
批准号：
57550572
负责人：
角岡 正弘
金额：
$1.09万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
财政年份：
1982
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1982 至 --
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会议论文
光開始による酸・塩基の生成とその高分子材料への応用
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批准号：59550633
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项目类别：Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额：$0.96万
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财政年份：1984
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负责人：角岡 正弘
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依托单位：
アゾメチン結合を有する化合物の光異性化を利用した紫外線吸収剤に関する研究
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批准号：X00095----165220
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项目类别：Grant-in-Aid for General Scientific Research (D)
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资助金额：$0.28万
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财政年份：1976
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负责人：角岡 正弘
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依托单位：