ピコ秒パルスX線照射法による高圧がス中電子付着係数の測定
ピコ秒パルスX線照射法による高圧がス中電子付着係数の測定
皮秒脉冲X射线辐照法测量高压下电子附着系数
批准号：
60550033
负责人：
山本 幸佳
金额：
$1.34万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
财政年份：
1985
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1985 至 --
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