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Integration halbleiterdotierter Siliziumoxidschichten in dielektrische Spiegel und deren Einsatz als neuartige sättigbare Absorber zur Modenkopplung in Femtosekundenlasern

Integration halbleiterdotierter Siliziumoxidschichten in dielektrische Spiegel und deren Einsatz als neuartige sättigbare Absorber zur Modenkopplung in Femtosekundenlasern
介电镜中半导体掺杂氧化硅层的集成及其作为飞秒激光器模式耦合的新型可饱和吸收器的用途
批准号:
5210080
负责人:
Dr. Ingmar Hartl
金额:
$0.0万
依托单位国家:
德国
项目类别:
Research Fellowships
财政年份:
1999
资助国家:
德国
项目状态:
已结题
起止时间:
1998-12-31 至 2001-12-31

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项目成果

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Die Entwicklung von preiswerten, kompakten und im Betrieb stabilen Femtosekundenlasersystemen ist - nicht zuletzt wegen vielfältiger Anwendungsmöglichkeiten in Physik, Chemie, Biologie, Medizin und Kommunikationstechnologie - eine große Herausforderung. Für die Emission ultrakurzer Lichtimpulse muß mit Hilfe eines "Modenkopplungsmechanismus" im Laser eine feste Phasenbeziehung der Resonatormoden hergestellt werden. Bei Festkörperlasern ist dafür zur Zeit entweder der Einsatz großer und teurer Pumplaser ("Kerr-Linsen-Modenkopplung") oder teurer optischer Komponenten (Halbleiterspiegel mit schnellen sättigbaren "Quantum Well" Absorbern) nötig. Diese können nur mit dem aufwendigen Verfahren der Molekularstrahlepitaxie hergestellt werden. Im beantragten Forschungsvorhaben soll ein dielektrischer Spiegel entwickelt werden, der mit Hilfe eingebrachter Halbleiter-Nanopartikel als schneller sättigbarer Absorber zur Modenkopplung in Femtosekunden-Festkörperlasern benutzt werden kann. Es soll gezeigt werden, daß die linearen und nichtlinearen optischen Eigenschaften dieser Spiegel gezielt beeinflußt und für den Einsatz zur Modenkopplung bei verschiedensten Lasermaterialien optimiert werden können. Die Möglichkeit, mit diesen Spiegel preiswerte, stabile und kompakte Femtosekundenlaser aufzubauen, soll demonstriert werden.
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