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黒鉛層間化合物を用いた吸脱着法による水素同位体分離プロセスの開発
利用石墨插层化合物吸附/解吸法开发氢同位素分离工艺
基本信息
- 批准号：60780243
- 负责人：
- 金额：$ 0.51万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
- 财政年份：1985
- 资助国家：日本
- 起止时间：1985 至 无数据
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
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寺井 隆幸其他文献
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- 影响因子：0
- 作者：
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- 影响因子：0
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ヌリヤンティ ヌヌン，八巻 徹也，喜多村 茜，越川 博，吉村 公男，
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- DOI：
- 发表时间：
2015 - 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：
藤田 光;近田 拓未;望月 惇平;堀越 清良;松永 萌暉;田中 照也;寺井 隆幸;佐々木拓哉;能村貴宏;伊藤篤史 - 通讯作者：
伊藤篤史
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- DOI：
- 发表时间：
2017 - 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：
中村 和貴;エンゲルス ヤン;藤田 光;堀越 清良;望月 惇平;松永 萌暉;近藤 創介;藪内 聖皓;寺井 隆幸;大矢 恭久;近田 拓未 - 通讯作者：
近田 拓未
寺井 隆幸的其他文献
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