誘電体ストリップ線路形光表面波平面回路の基礎研究

1.光平面回路の概念,回路方程式の整理図1に示すように、誘電体基板上(ε1)にバッファ層(ε2)を設け、この上に誘電体ストリップ(ε3)を置いた誘電体ストリップ線路形光表面波平面回路の電磁波動論的特性を記述する方程式として、光平面回路方程式を確立・整理した事。2.リブ線路形横方向閉じ込め壁の理論解析誘電体ストリップ線路形光表面波平面回路で、実際の光平面回路を構成するには、光表面波の横方向閉じ込め壁を設ける必要がある。ここでは、横方向閉じ込め壁としてリブ線路形一様不連続壁を取り挙げ、この閉じ込め壁が動作する範囲及びこの閉じ込め壁が有する電磁波動論的特性を明らかにした。3.回路作成と測定の準備光平面回路を実際に作成し、理論結果との照合を行う為の準備を完了した。ここでは、基板としてガラス(n1=1.51)、バッファ層としてMgF2(n2=1.38)、誘電体ストリップとして電子線露光可能なPMMA(n3=1.49)を用いた場合の作成技術を確立するとともに、この構成で作成したスラブ導波路の実効屈折率を測定し、理論との照合を行った。

1.光平面回路の概念,回路方程式の整理図1に示すように、誘電体基板上(ε1)にバッファ層(ε2)を設け、この上に誘電体ストリップ(ε3)を置いた誘電体ストリップ線路形光表面波平面回路の電磁波動論的特性を記述する方程式として、光平面回路方程式を確立・整理した事。2.リブ線路形横方向閉じ込め壁の理論解析誘電体ストリップ線路形光表面波平面回路で、実際の光平面回路を構成するには、光表面波の横方向閉じ込め壁を設ける必要がある。ここでは、横方向閉じ込め壁としてリブ線路形一様不連続壁を取り挙げ、この閉じ込め壁が動作する範囲及びこの閉じ込め壁が有する電磁波動論的特性を明らかにした。3.回路作成と測定の準備光平面回路を実際に作成し、理論結果との照合を行う為の準備を完了した。ここでは、基板としてガラス(n1=1.51)、バッファ層としてMgF2(n2=1.38)、誘電体ストリップとして電子線露光可能なPMMA(n3=1.49)を用いた場合の作成技術を確立するとともに、この構成で作成したスラブ導波路の実効屈折率を測定し、理論との照合を行った。