高分解能しきい値分光装置による希土類金属薄膜-Si界面形成過程
高分解能しきい値分光装置による希土類金属薄膜-Si界面形成過程
批准号:
61540237
负责人:
西守 克己
金额:
$0.9万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
财政年份:
1986
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1986 至 --
中文摘要
1,研究成果,(1)高性能電子線銃による高分解能しきい値分光装置の製作、励起用入射電子線源として高性能電子線銃(当該研究の購入品)を用いたしきい値分光装置を製作した。この電子銃により電子ビームの収束性が良くなり、ターゲット(試料)上での測定領域がO.2mmφ程度にまで精密に決定できるようになったと同時に、高輝度の電子ビームが得られ、しきい値分光(DAPS,AEAPS,SXAPS)法の高感度化が容易となった。特に従来SXAPSは測定感度が低かったが、励起電子電流が200μAと従来の1/10に低減しても高エネルギー分解能(相対エネルギー分解能で0.1eV)が得られた。またDAPS,AEAPS測定においても、励起電子電流0.7μAで希土類金属ランタンLaに対する各スペクトルで同じく高エネルギー分解能0.1eVが得られた。(2)希土類金属-Si界面反応と電子構造変化の測定。クヌーセン型の希土類金属用蒸着源を開発した。これを使って薄膜の希土類金属-Si化合物を形成し、しきい値分光法で調べた。BaやLaの【N_(4,5)】準位でのスペクトルは4f-5d電子状態により変化するので上記高分解能しきい値分光法で、そのピーク形状、ピークエネルギー値、およびそれらの測定感度について最適な実験条件の設定と標準スペクトルの作成を行った。また、BaやLaのシリサイド形成におけるスペクトル形状の変化、および化学シフトを適確に理解するため、その化学的性質が似ているTiシリサイド形成との場合と比較し、その類似性を調べた。2,研究の孝察・反省,当初の目的を概ね達成したので、今後は本研究によって得られた各成果を基礎に、その他の希土類金属へと数をふやし系続的に、希土類金属シリサイドの性質を調べたい。
英文摘要
1,研究成果,(1)高性能電子線銃による高分解能しきい値分光装置の製作、励起用入射電子線源として高性能電子線銃(当該研究の購入品)を用いたしきい値分光装置を製作した。この電子銃により電子ビームの収束性が良くなり、ターゲット(試料)上での測定領域がO.2mmφ程度にまで精密に決定できるようになったと同時に、高輝度の電子ビームが得られ、しきい値分光(DAPS,AEAPS,SXAPS)法の高感度化が容易となった。特に従来SXAPSは測定感度が低かったが、励起電子電流が200μAと従来の1/10に低減しても高エネルギー分解能(相対エネルギー分解能で0.1eV)が得られた。またDAPS,AEAPS測定においても、励起電子電流0.7μAで希土類金属ランタンLaに対する各スペクトルで同じく高エネルギー分解能0.1eVが得られた。(2)希土類金属-Si界面反応と電子構造変化の測定。クヌーセン型の希土類金属用蒸着源を開発した。これを使って薄膜の希土類金属-Si化合物を形成し、しきい値分光法で調べた。BaやLaの【N_(4,5)】準位でのスペクトルは4f-5d電子状態により変化するので上記高分解能しきい値分光法で、そのピーク形状、ピークエネルギー値、およびそれらの測定感度について最適な実験条件の設定と標準スペクトルの作成を行った。また、BaやLaのシリサイド形成におけるスペクトル形状の変化、および化学シフトを適確に理解するため、その化学的性質が似ているTiシリサイド形成との場合と比較し、その類似性を調べた。2,研究の孝察・反省,当初の目的を概ね達成したので、今後は本研究によって得られた各成果を基礎に、その他の希土類金属へと数をふやし系続的に、希土類金属シリサイドの性質を調べたい。
期刊论文(1)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
前田圭一,西守克己,徳高平蔵,石原永伯: 真空.
前田敬一、西森胜美、德高平三、石原荣博:真空。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
しきい値分光法による薄膜金属シリサイドの初期形成過程
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批准号:56750012
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.51万
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财政年份:1981
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负责人:西守 克己
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依托单位:
DAPS法による後方散乱因子及び脱出深さの決定
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批准号:X00210----475012
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.41万
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财政年份:1979
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负责人:西守 克己
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依托单位:
蒸着薄膜成長のSXAPS(軟X線出現電圧分光法)による研究
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批准号:X00210----175013
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.22万
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财政年份:1976
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负责人:西守 克己
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依托单位:
海外基金