课题基金 / 基金详情

輻射の再分配を用いた反応性衝突過程の研究

輻射の再分配を用いた反応性衝突過程の研究
利用辐射再分布研究反应碰撞过程
批准号：
61750030
负责人：
播磨 弘
金额：
$0.51万
依托单位：
Kyoto Institute of Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份：
1986
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1986 至 --
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-61750030/
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スピントロニクス材料ミクロ構造の分光学的検証
  • 批准号：
    19019007
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 资助金额：
    $5.63万
  • 财政年份：
    2007
  • 负责人：
    播磨 弘
  • 依托单位：
    Kyoto Institute of Technology
スピントロニクス材料ミクロ構造の分光学的検証
  • 批准号：
    18036006
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 资助金额：
    $1.28万
  • 财政年份：
    2006
  • 负责人：
    播磨 弘
  • 依托单位：
    Kyoto Institute of Technology
ZnSe/ZnTeの系歪超格子構造のラマン散乱測定
  • 批准号：
    04650020
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 资助金额：
    $1.09万
  • 财政年份：
    1992
  • 负责人：
    播磨 弘
  • 依托单位：
    Osaka University
MOCVD法による高温超伝導膜成長の分光的モニタリングと光励起を併用した膜質制御
  • 批准号：
    03211219
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 资助金额：
    $1.15万
  • 财政年份：
    1991
  • 负责人：
    播磨 弘
  • 依托单位：
    Kyoto Institute of Technology