超薄層シリコン酸化膜中の不純物拡散に関する研究
超薄層シリコン酸化膜中の不純物拡散に関する研究
超薄氧化硅薄膜中杂质扩散研究
批准号：
61750261
负责人：
松浦 孝
金额：
$0.58万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份：
1986
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1986 至 --
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会议论文
Si系アモルファス絶縁薄膜の表面構造敏感エッチングと原子制御
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批准号：10875065
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项目类别：Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额：$0.0万
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财政年份：1998
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负责人：松浦 孝
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依托单位：