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アモルファスSi/結晶Si界面の構造とそのエピタキシーに関する研究

アモルファスSi/結晶Si界面の構造とそのエピタキシーに関する研究
非晶硅/晶硅界面结构及其外延研究
批准号:
62750047
负责人:
重田 諭吉
金额:
$0.58万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份:
1987
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1987 至 --
关键词:

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赤外線反射スペクトルによるエピタキシ-成長の動的過程の研究
  • 批准号:
    03650046
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 资助金额:
    $0.0万
  • 财政年份:
    1991
  • 负责人:
    重田 諭吉
  • 依托单位:
金属/半導体界面の電子状態の研究
  • 批准号:
    60750044
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 资助金额:
    $0.58万
  • 财政年份:
    1985
  • 负责人:
    重田 諭吉
  • 依托单位:
角度分解型電子分光法によるAu(100)面の(5×20)と(1×1)構造の研究
  • 批准号:
    57750040
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 资助金额:
    $0.51万
  • 财政年份:
    1982
  • 负责人:
    重田 諭吉
  • 依托单位:
角度分散型電子分光法によるAu(100)面の(5×20)と(1×1)構造の研究
  • 批准号:
    56750032
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 资助金额:
    $0.63万
  • 财政年份:
    1981
  • 负责人:
    重田 諭吉
  • 依托单位: