モノシラン分子線と真空紫外光を用いたシリコン光エピタキシの素過程の研究
モノシラン分子線と真空紫外光を用いたシリコン光エピタキシの素過程の研究
甲硅烷分子束和真空紫外光硅光外延基本工艺研究
批准号：
62750251
负责人：
末光 真希
金额：
$0.58万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份：
1987
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1987 至 --
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会议论文
半絶縁性砒化ガリウムの EPR 中心と深い不純物準位の関係の研究
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批准号：58550205
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项目类别：Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额：$1.02万
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财政年份：1983
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负责人：末光 真希
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依托单位：
クロム添加半絶縁性砒化ガリウム基板内のクロム状態に関する, 光照射EPRによる研究
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批准号：57750234
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项目类别：Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额：$0.42万
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财政年份：1982
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负责人：末光 真希
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依托单位：