高周波スパッタリングとイオン注入の同時照射による多層膜の作成
高周波スパッタリングとイオン注入の同時照射による多層膜の作成
通过同时照射高频溅射和离子注入形成多层膜
批准号：
01750062
负责人：
鈴木 泰之
金额：
$0.51万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份：
1989
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1989 至 --
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会议论文
モリブデン・ブロンズの陽電子消滅回転測定法による物性研究
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批准号：62750647
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项目类别：Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额：$0.58万
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财政年份：1987
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负责人：鈴木 泰之
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依托单位：
陽電子消滅寿命とエネルギ同時回転型測定による合成金属の研究
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批准号：59750551
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项目类别：Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额：$0.64万
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财政年份：1984
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负责人：鈴木 泰之
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依托单位：
陽電子消滅寿命及び消滅エネルギの同時測定による金属, 合成金属の研究
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批准号：57750593
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项目类别：Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额：$0.45万
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财政年份：1982
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负责人：鈴木 泰之
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依托单位：