ヘテロエピタキシャル半導体超格子薄膜の表面・界面制御に関する基礎的研究
ヘテロエピタキシャル半導体超格子薄膜の表面・界面制御に関する基礎的研究
异质外延半导体超晶格薄膜表面与界面控制基础研究
批准号：
01750650
负责人：
粕壁 善隆
金额：
$0.51万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份：
1989
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1989 至 --
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電子線蒸着・ホットウォールエピタキシ-法による金属・半導体超格子の表面・界面制御
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批准号：06750683
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项目类别：Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额：$0.64万
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财政年份：1994
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负责人：粕壁 善隆
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依托单位：
グラフォエピタキシー法による金属および化合物半導体薄膜の作成に関する基礎的研究
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批准号：63750743
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项目类别：Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额：$0.51万
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财政年份：1988
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负责人：粕壁 善隆
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依托单位：