ナノ秒パルスによる沿面放電の分光学的・気体力学的研究

纳秒脉冲沿面放电的光谱和气体动力学研究

• 批准号: 02650208
• 负责人: 藤岡 伸宏
• 金额: $ 1.34万
• 依托单位: College of Industrial Technology
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
• 财政年份: 1990
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1990 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-02650208/
• 关键词: ナノ秒パルス沿面放電; 多チャンネル分光; 発光スペクトル; バンドスペクトル; 線スペクトル; 連続スペクトル

実用的なパルスパワ-機器の沿面絶縁設計の合理化、安定で強力なレ-ザ-用予備電離源の開発に寄与するために、大気中のガラスエポキシ沿面放電電極系に110ナノ秒幅のパルス電圧を印加し、部分放電・フラッシオ-バ発生時の発光を、瞬時多チャンネル分光器で計測した。その主な結果は以下の通りである。(1)沿面部分放電を発生させた場合には、窒素分子の2ndポテイブバンド、窒素分子イオンの1stネガテイブバンド、酸素分子イオンの2ndネガテイブバンドが主要なスペクトルピ-クを形成している。このことは、沿面部分放電ではガス分子温度が上昇せずコ-ルド状態にあることを示している。(2)沿面部分放電のスペクトル形状は電圧パルスの極性に左右されない。同一印加電圧では、正極性パルスの方が負極性パルスよりも強い発光領域の面積が広い。(3)沿面部分放電の発光は、電圧パルスの立ち上がりと立ち下がりに発生し、その波形は電圧パルスの極性、発光場所により異なる。特に正極性パルスの立ち上がりにおいて電極エッジより余り離れない場所では、波形の異なる2個の発光パルスが発生する。第2番目の発光パルスの原因となる放電の進展速度は、1.54x10^6m/sが導出された。(4)フラッシオ-バは、連続スペクトルと強い線スペクトル(炭素、シリコン、銅)、弱い線スペクトル(水素原子、酸素の原子と原子イオン)が発生する。また窒化炭素によるバンドスペクトルも出現する。このことは、フラッシオ-バの発生でガスが高温になり、ガラスエポキシの蒸発分解、その組成原子とガス原子との再結合反応および銅電極の気化、プパッタリング現象が発生していることを示している。

In practice, the surface insulation design of the machine is rationalized, stable, powerful, and stable. The development of the standby ionization source is carried out in a large amount of time. The surface discharge electrode system is 110. The second amplitude of the discharge voltage is measured by the emission of light at the time of partial discharge. The instantaneous multi-channel light spectrometer is measured. The main result is the following: (1)The 2nd generation of protein molecules, the 1st generation of protein molecules, the 2nd generation of acid molecules, and the 2nd generation of protein molecules are all formed along the surface. The temperature of the molecules rises along the surface. (2)Along the surface of the part of the discharge shape is the voltage of the polarity of the left and right The area of the area where the light is emitted is divided into two parts: the first part is the area where the light is emitted and the second part is the area where the light is emitted. (3)Along the surface part of the light source, the voltage source. The two light emission paths are generated at different positions of the electrode and the waveform. The reason why the second item was released was that the rate of progress was 1.54x10^6m/s. (4)A strong line selection (carbon, silicon, copper) and a weak line selection (water atom, acid atom and atom) are produced. Carbon dioxide is a natural gas. This phenomenon is caused by high temperature, high temperature, evaporation and decomposition of constituent atoms, recombination of atoms, and oxidation and decomposition of copper electrodes.