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対向ターゲット式ECRスパッタ法を用いた垂直磁化膜の作製

対向ターゲット式ECRスパッタ法を用いた垂直磁化膜の作製
面向靶材ECR溅射法制备垂直磁化薄膜
批准号:
02780010
负责人:
米須 章
金额:
$0.64万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份:
1990
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1990 至 --
关键词:

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ヘリカルアンテナを用いたECRスパッタ装置の開発
  • 批准号:
    08780458
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 资助金额:
    $0.58万
  • 财政年份:
    1996
  • 负责人:
    米須 章
  • 依托单位:
永久磁石を用いたECRスパッタリング装置の開発
  • 批准号:
    05780362
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 资助金额:
    $0.58万
  • 财政年份:
    1993
  • 负责人:
    米須 章
  • 依托单位: