多層超伝導薄膜での対破壊と電子ー格子非弾性散乱

多层超导薄膜中的电子对破坏和电子晶格非弹性散射

• 批准号: 03640340
• 负责人: 篠崎 文重
• 金额: --
• 依托单位: Kyushu University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
• 财政年份: 1991
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1991 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-03640340/
• 关键词: NormolーSuper多層膜; 対破壊パラメ-タ-; 電子非弾性散乱頻度; ゆらぎ効果; 電子ー電子相互作用; 電子ー格子相互作用

超伝導転移温度Tc近傍ではゆらぎ効果によるexcessconductanceが存在する.その主要な項にmakiーThopsontermがあるがこれは従来物理的意味が確かでないpair breaking parameterδを含んでいる。この量はmaterial,膜作成条件に強く依存する.本研究では,aluminum膜を薄い常伝導金属で覆った場合に観測されているδのenーhancementの原因を追求する目的で,常伝導金属としてgold,silver,copperを選び,実験を行った.試料は真空蒸着,室温で作成した.最近の電子局在の理論からδは電子非弾性散乱時間τinと結び付いている事が知られている.我々は広い温度範囲における磁気抵抗の解析からτinを求め,その散乱頻度1/τinをゆらぎ効果(fluc.),電子ー電子(eーe)相互作用,電子ー格子(eーph)相互作用による散乱頻度の和で表現し,それぞれの散乱頻度に対するovercoatingの影響を調べた.(1)quench condenced filmと異なり,我々の室温蒸着膜ではnormal metalのAl膜への拡散現象がみられた.これは蒸着時のAl膜の抵抗増加,Tc depressionより明らかになった.(2)Cu,Ag,Auとその影響が大きくなるspinーorbit相互作用が働くだけでなく,拡散効果はAl膜の弾性的性質に影響する事が,eーph散乱頻度の変化より明らかになった.Au depositionの場合,pure Al膜に比べ1/τeーphは増加,Ag,Cuでは減少した.我々の以前のSn,Pbの場合,この1/τeーphの増加が両者の大きなδの原因の一つであったが,Tcが低いAlの場合,1/τeーphの項はδにほどんど寄与しない.(3)overdepositionは,理論的には膜の面抵抗だけにしか依存しない1/τfluc,1/τeーeにも影響をあたえた.Al+Auでのδのenhancementはこの1/τfluc,termが利いている.一方,最近の理論では,Tc近傍では1/τflucと1/Teーeに分けて議論する事は不可能という指摘があり,この領域の非弾性散乱mechanismの解明は理論,実験共,今後の問題である.

The excess conductivity exists near the transition temperature Tc. The main item "nimaki ~ Thopsonterm" The quantity of the material depends strongly on the conditions under which the film is made. In this paper, we investigate the reasons why aluminum thin films are often conductive metals, such as gold,silver and copper. The sample was evaporated in vacuum and prepared at room temperature. The most recent theory of electron scattering is that the electron scattering time τin the structure is not constant. The analysis of magnetic field resistance in the temperature range of air and water is carried out, and the scattering frequency is 1/τin. Electron (e) interaction, electron lattice (e) interaction, scattering frequency and performance, all of which affect the scattering frequency. (1)Quench condensed film is different from normal metal and Al film. The resistance of Al film increases during evaporation,Tc depression increases. (2)Cu In the case of Au deposition, the ratio of pure Al film to 1/τe ph increases, while Ag and Cu decrease. In the case of Sn and Pb, the 1/τe ph term is increased,Tc is low, Al is low, and 1/τe ph term is increased. (3)Overdeposition, theoretical surface resistance of Al + Au film depends on 1/τfluc,1/τe.Al+Au film δ enhancement depends on 1/τfluc,term. On the one hand, the most recent theory,Tc, near to 1/τfluc 1/Te, is impossible to discuss, the field of non-coherent scattered mechanism of the solution to the theory, the common, future problems.

项目成果

B.Shinozaki,T.Kawaguti and Y.Fujimori: "Inelastic Scattering Time of Superconducting Aluminum Films Overdeposited with Normal Metal" J.Phys.Soc.Jpn.

B.Shinozaki、T.Kawaguti 和 Y.Fujimori：“用普通金属过度沉积的超导铝膜的非弹性散射时间”J.Phys.Soc.Jpn。