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量子ビーム照射によって化合物半導体表面に生成された欠陥の,LB膜による制御

使用LB膜通过量子束照射控制化合物半导体表面产生的缺陷

基本信息

批准号：
04780226
负责人：
浅井圭介
金额：
$ 0.58万
依托单位：
The University of Tokyo
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份：
1992
资助国家：
日本
起止时间：
1992 至无数据
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-04780226/
关键词：

项目摘要

项目成果

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