強磁性酸化物薄膜の成膜条件と磁歪定数に関する研究

铁磁氧化物薄膜沉积条件及磁致伸缩常数研究

• 批准号: 07750773
• 负责人: 榎 浩利
• 金额: $ 0.51万
• 依托单位: Tohoku University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
• 财政年份: 1995
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1995 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-07750773/
• 关键词: アクチュエータ; 磁歪; 酸化物強磁性体; スパッタリング

近年,磁歪現象を利用したアクチュエータが開発されつつあるが,より過酷な条件で使用するためにはキュリー温度が高い酸化物薄膜を用いる必要がある。本研究では比較的大きな磁歪を示すCoFe_2O_4に注目して,酸素濃度を比較的制御しやすいrfマグネトロンスパッタ法により成膜し,スパッタ条件と結晶構造や組成などの関係について調べた。市販のCoFe_2O_4粉末を焼結してターゲットとし,石英基板上にr.f.マグネトロンスパッタ装置により成膜した,その際の基板温度,r.f.出力,酸素ガス分圧の条件の違いによる薄膜組織の変化をXRD,SEM(EDS)およびTEMで分析した。その結果,基板温度が,1073K以上の場合,スパッタガス中の酸素分圧やr.f.出力に関係なくCoFe_2O_4膜が得られた。基板温度が873K以下の場合には膜に金属色の光沢があり,X線の結果からもCoFe_2O_4の反射はみとめられず,金属で成膜していることがわかった。1073Kで得られた膜は表面の凹凸が激しく,また中に気孔が多く認められ,密に膜を得ることが,これからの課題となる。

In recent years, the phenomenon of magnetic skew has been used to develop, and it is necessary to use acid films with high temperature under extremely cool conditions. In this study, we compare the magnetic properties of CoFe2O4 with those of CoFe2O4, and compare the chemical composition of CoFe2O4 with those of CoFe2O4. CoFe_2O_4 powder was sintered on quartz substrate at different temperatures, such as substrate temperature, r.f. power, acid pressure, etc. The microstructure of thin film was analyzed by XRD,SEM(EDS) and TEM. As a result, CoFe_2O_4 films are obtained when the substrate temperature is above 1073K. When the substrate temperature is below 873K, the metallic color of the film is reflected by X-ray. 1073K, the surface of the film is uneven, and the hole in the film is numerous.