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有機金属気相成長法を用いたシリコン基板上の窒素ガリウム系発光素子の研究

有機金属気相成長法を用いたシリコン基板上の窒素ガリウム系発光素子の研究
有机金属气相外延硅衬底氮镓基发光器件研究
批准号：
00F00068
负责人：
江川 孝志
金额：
$0.58万
依托单位：
Nagoya Institute of Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份：
2001
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2001 至 --
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-00F00068/
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シリコン基板上への窒化ガリウム系四元混晶半導体の結晶成長及びその素子の応用
  • 批准号：
    02F00329
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 资助金额：
    $1.15万
  • 财政年份：
    2002
  • 负责人：
    江川 孝志
  • 依托单位：
    Nagoya Institute of Technology
窒化カリウムを用いた高温動作用電界効果型トランジスタの研究
  • 批准号：
    99F00054
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 资助金额：
    $0.51万
  • 财政年份：
    2000
  • 负责人：
    江川 孝志
  • 依托单位：
    Nagoya Institute of Technology
シリコン基板上の室温連続発振面発光レーザーに関する研究
  • 批准号：
    06650053
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 资助金额：
    $1.28万
  • 财政年份：
    1994
  • 负责人：
    江川 孝志
  • 依托单位：
    Nagoya Institute of Technology
選択成長法を用いたシリコン基板上の面発光レーザーに関する研究
  • 批准号：
    05750290
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 资助金额：
    $0.58万
  • 财政年份：
    1993
  • 负责人：
    江川 孝志
  • 依托单位：
    Nagoya Institute of Technology