次世代半導体プロセス用ECRプラズマの大口径化に関する実験的研究
次世代半導体プロセス用ECRプラズマの大口径化に関する実験的研究
批准号:
01J09835
负责人:
眞銅 雅子
金额:
$0.77万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份:
2001
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2001 至 --
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会议论文
農作物の系統分類に基づくプラズマを用いた生長促進因子の探索
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批准号:23K03371
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$2.91万
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财政年份:2023
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负责人:眞銅 雅子
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依托单位:
磁場存在下での負イオンプラズマ中のダストの挙動に関する理論およびシミュレーション
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批准号:15740324
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项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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资助金额:$1.73万
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财政年份:2003
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负责人:眞銅 雅子
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依托单位: