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電子プラズマ中へのプラズマ入射によるプラズマ非中性化の試行

通过等离子体注入电子等离子体进行等离子体去中性试验

基本信息

批准号：
14702066
负责人：
比村治彦
金额：
$ 4.66万
依托单位：
The University of Tokyo
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
财政年份：
2002
资助国家：
日本
起止时间：
2002 至 2004
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-14702066/
关键词：
電子プラズマチタンワッシャーガン非中性プラズマ反磁性ドリフト E×Bドリフト水素吸蔵金属スパッタリング沿面放電プラズマガン自己電場プラズマ流マッハプローブマルンバーグトラップイオン回転流非中性化回転流ホール素子反磁性信号

项目摘要

昨年度の試行実験において,同軸プラズマガンにより生成された中性プラズマを電子プラズマに入射した場合には高いイオン温度に起因する反磁性ドリフトが支配的となり,非中性化によるE×Bドリフトを検証するに至らなかった.そこで,研究最終年度では,別のプラズマ生成を試してみることにした.検討の結果,低いイオン温度を持つ水素プラズマ生成が期待できるチタンワッシャーガンを設計製作して,このガンにより生成された水素プラズマを電子プラズマ中に入射する実験計画を進めた.製作したチタンワッシャーガンは,レアメタリック社により特注製作して頂いたチタンワッシャー5枚により組み立て,これを新たに設計製作した放電回路を用いて放電を試みた.生成された水素イオンに与えるエネルギーを最小とするために,この放電回路は負電圧充電回路となっている.チタンワッシャーに対する水素吸蔵は,日本ヘイズ社の真空炉,及びカンドリ工業社の水素炉を用いて実施した.生成されたプラズマはシングルプローブ法により測定した.データより,プラズマ密度は〜10^<17>m^<-3>となっておりターゲット領域のプラズマ密度となっている.温度については,飛行時間測定法による見積もりでは,約2eVとなっているが,これについてはプローブによる電流-電圧特性等によるクロスチェックが必要である.上記のプラズマ源については,放電回数が十分に上がらずにチタンワッシャーガン内部で絶縁破壊を生じやすい現象が続いた.原因を究明した所,チタンワッシャーへの水素吸蔵時に不純物が混入しており,放電時にその不純物がガン内部にスパッタリングされ,この不純物を通じて沿面放電している事が明らかになった.現在,不純物が混入しない水素吸蔵機器を設計製作しており,再度,チタンワッシャーに水素吸蔵を行った上で,低温プラズマの電子プラズマへの入射を行う予定にしている.

In the past year, the experiment has been carried out, and the coaxial power generation has been carried out. The neutral power generation has been carried out, and the electron power generation has been carried out. In the case of high temperature, the diamagnetic power generation has been carried out, and the non-neutral power generation has been carried out. The final year of the study is the year of the study, the year of the study is the year of the study. As a result of the investigation, the low temperature of the water element is expected to be generated, and the water element is generated. The production of the first batch of rice, rice The water element is generated and the water element is generated. The discharge circuit is charged with the negative voltage. The vacuum furnace of Japan and the water absorption furnace of Japan Industrial Co., Ltd. The first step is to measure the temperature of the water.データより,プラズマ密度は〜10^<17>m^<-3>となっておりターゲット领域のプラズマ密度となっている. Temperature measurement, time of flight measurement, about 2eV, current-voltage characteristics, etc. However, the number of Li Guohui cases has increased to ten, and there is an absolute phenomenon of corruption inside the network. The reason is that impurities are mixed in when water is absorbed, and impurities are mixed in when water is absorbed. Now, impurities are mixed into the water absorption machine design and production, again, the water absorption process, low temperature, electronic, incident process predetermined.