単一蛍光微粒子をプローブとした高感度光誘起表面レリーフ形成機構の解明
単一蛍光微粒子をプローブとした高感度光誘起表面レリーフ形成機構の解明
批准号:
14740391
负责人:
生方 俊
金额:
$2.24万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份:
2002
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2002 至 2004
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英文摘要
本研究では、アゾベンゼン高分子におけるわずかな露光エネルギーで形成する光誘起表面レリーフ(高感度表面レリーフ)の物質移動メカニズムの解明のアプローチとして、高分子中に添加したゲスト分子をプローブとした物質移動の挙動および薄膜の粘性変化を観察することを目的としている。本年度は、走査型プローブ顕微鏡を用いて、高分子薄膜の最表面層の粘性分布を評価した。高感度に物質移動が誘起されるアゾベンゼン高分子薄膜にフォトマスクを介して紫外光照射を行い、トランス体とシス体の濃度差分布を有するアゾベンゼン高分子薄膜を作製した。走査型プローブ顕微鏡のタッピングモードの位相像より、マスクのパターンと一致した高分子薄膜表面層の相対的な粘弾性分布を確認することができた。また表面形状像より、光明部から暗部への物質移動が起こることがわかった。この時形成するレリーフは、高感度表面レリーフ形成時の均一な前露光後のパターン可視光照射後と比べると小さく、移動する物質の量が少ないことがわかった。また、この移動について偏光依存性を検討したが、マスクの格子方向に対して平行と垂直の直線偏光を照射した結果得られる表面形状像に大きな違いは認められず、同様なレリーフ形状が観察された。この結果は、光の電場勾配と誘起ダイポールモーメントの相互作用による光勾配力の寄与は、ほとんどないことを示す。現在のところ、高感度物質移動現象の初期の移動過程においては、物質の移動方向と偏光に依存しないことより、光散乱力の寄与が大きいと推測される。
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Two-dimensional manipulation of π-conjugated polymer by means of instant mass migration
通过瞬时质量迁移对π共轭聚合物进行二维操控
DOI:
--
发表时间:
2004
期刊:
Transactions of The Materials Research Society of Japan 29
影响因子:
--
作者:
[N.Zettsu, T.Ubukata, M.Hara, T.Seki]
通讯作者:
T.Seki
Spontaneous Motion Observed in Highly Sensitive Surface Relief Formation System
高灵敏表面起伏形成系统中观测到的自发运动
DOI:
--
发表时间:
2005
期刊:
Colloids and Surfaces A 257/258
影响因子:
--
作者:
[T.Ubukata, T.Higuchi, N.Zettsu, T.Seki, M.Hara]
通讯作者:
M.Hara
Ubukata T., Hara M., Ichimura K., Seki T: "Phototactic mass transport in polymer films for micropatterning and alignment of functional materials"Adv.Mater.. 16. 220-223 (2004)
Ubukata T.、Hara M.、Ichimura K.、Seki T:“用于功能材料微图案化和排列的聚合物薄膜中的光致质量传输”Adv.Mater.. 16. 220-223 (2004)
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Two-Dimensional Manipulation of Poly(3-dodecylthiophene) Using Light-Driven Instant Mass Migration as a Molecular Conveyer
使用光驱动瞬时质量迁移作为分子传送器对聚(3-十二烷基噻吩)进行二维操作
DOI:
--
发表时间:
2004
期刊:
Japanese Journal of Applied Physics 43(9A/B)
影响因子:
--
作者:
[N.Zettsu, T.Ubukata, T.Seki]
通讯作者:
T.Seki
感光性組成物及びパターン形成方法
感光性组合物及图案形成方法
DOI:
--
发表时间:
2005
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
共 6 条
Increase in Efficiency of Photopolymerizable Thin Film Surface Relief by Surface Modification Approach
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批准号:22K05237
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$2.58万
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财政年份:2022
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负责人:生方 俊
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依托单位: