アゾベンゼン高分子薄膜を用いたホログラム窓の開発

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アゾベンゼン部位を側鎖にもつ高分子材料は吸収のあるレーザー干渉光を照射することで、簡単に微細な表面レリーフ構造を得られることから、新しい記録材料として注目されている。本研究では、アゾベンゼン高分子薄膜を用いたホログラム窓の開発に向けて、アゾベンゼン高分子薄膜の記録特性評価、拡散体の試作、評価をおこなった。レーザー光源としてハイパワーでアゾベンゼンへの記録感度の良い波長のAr^+レーザー(488nmおよび514nm)を用いた。現在までに記録光の光強度及び偏光依存性の評価をおこない、薄膜上に回折格子を記録し最適な記録条件を求めた。また、実際にホログラム拡散体を記録し、透過率、拡散特性等を評価した。その結果、最適な膜厚、記録時間で記録することにより、透過率88%、非拡散光1%以下の良好な拡散体を作製することができた。さらに、回折格子と拡散体を組み合わせることで、拡散方向の制御ができる拡散体の試作およびシミュレーションをおこなった。実験およびシミュレーションにより、1次回折光が上方に効率良く拡散されるようすが確認された。また、可視域で透明性が高く、安定なシリコン樹脂や紫外線硬化樹脂の使用を検討し、最適な作製条件を求めた。さらに、実際に家のモデルを用いてホログラム窓の試作・評価を行った。研究成果の一部は国際ワークショップIWMST2004において発表及びデモを実施した。また国際ワークショップIWMST2006においても発表予定である。本研究に関して現在までに3件の研究論文発表と及び1件の特許出願をおこなった。今年度で科研費若手研究は終了となるが、今後もホログラム窓の実用化を最終目標に、大面積化、最適化について継続して研究を進めていく。