ワイドギャップ導電性オキシテルライドの合成および物性評価
ワイドギャップ導電性オキシテルライドの合成および物性評価
批准号:
15760497
负责人:
植田 和茂
金额:
$2.05万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份:
2003
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2003 至 2004
中文摘要
本研究は、LaCuOCh(Ch=S,Se,Te)の光学的・電気的物性を系統的に理解することを狙い、LaCuOSと同一の結晶構造をもつLaCuOTeを合成し、その基本的な物性を調べることを目的とした。LaCuOTeは1998年にその相の存在が報告され、電子物性の報告は現在ほとんどない。しかし、今までの我々のLaCuOCh(Ch=S,Se)の研究結果を考慮すると、本物質においても興味ある光・電気・磁気的特性が得られる可能性は非常に高いと考えられる。本研究では、本物質の合成方法を確立し、簡単な光・電気的測定を行うことを目指した。更に、バンド計算を行い、その電子構造を調べることも目的とした。アニオンが2つあるということからも推測されるように、合成方法はそれほど簡単ではなかったが、2段階の熱処理により、単相のサンプルを得られることが明らかになった。一方、簡単な光・電気的測定に関しては、オキシ硫化物やオキシセレン化物と同様なp型半導体であったが、そのギャップは硫化物、セレン化物、テルル化物の順に小さかった。更に、光学遷移による発光を示さず、バンド計算からは、直接型のエネルギーギャップではなく、間接型のエネルギーギャップを持つことがわかった。以前までの研究と本研究から、一連のオキシカルコゲナイドLaCuOCh(Ch=S,Se,Te)は、いずれもワイドギャップp型半導体であるが、オキシテルル化物のみが間接ギャプであることが明らかになった。これらの成果の詳細は、論文にまとめ、J.Phys.Condens.Matterに印刷された。
英文摘要
本研究は、LaCuOCh(Ch=S,Se,Te)の光学的・電気的物性を系統的に理解することを狙い、LaCuOSと同一の結晶構造をもつLaCuOTeを合成し、その基本的な物性を調べることを目的とした。LaCuOTeは1998年にその相の存在が報告され、電子物性の報告は現在ほとんどない。しかし、今までの我々のLaCuOCh(Ch=S,Se)の研究結果を考慮すると、本物質においても興味ある光・電気・磁気的特性が得られる可能性は非常に高いと考えられる。本研究では、本物質の合成方法を確立し、簡単な光・電気的測定を行うことを目指した。更に、バンド計算を行い、その電子構造を調べることも目的とした。アニオンが2つあるということからも推測されるように、合成方法はそれほど簡単ではなかったが、2段階の熱処理により、単相のサンプルを得られることが明らかになった。一方、簡単な光・電気的測定に関しては、オキシ硫化物やオキシセレン化物と同様なp型半導体であったが、そのギャップは硫化物、セレン化物、テルル化物の順に小さかった。更に、光学遷移による発光を示さず、バンド計算からは、直接型のエネルギーギャップではなく、間接型のエネルギーギャップを持つことがわかった。以前までの研究と本研究から、一連のオキシカルコゲナイドLaCuOCh(Ch=S,Se,Te)は、いずれもワイドギャップp型半導体であるが、オキシテルル化物のみが間接ギャプであることが明らかになった。これらの成果の詳細は、論文にまとめ、J.Phys.Condens.Matterに印刷された。
期刊论文(1)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
Energy band structure of LaCuOCh (Ch=S, Se and Te) calculated by the F'LAPW method
FLAPW 方法计算的 LaCuOCh (Ch=S、Se 和 Te) 能带结构
DOI:
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发表时间:
2004
期刊:
J.Phys. : Condens.Matter 16
影响因子:
--
作者:
[K.Ueda, H.Hosono, N.Hamada]
通讯作者:
N.Hamada
共添加によるエネルギー移動とサイト選択添加を利用した新規蛍光体の開発と発光解析
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批准号:24K08040
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$3.0万
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财政年份:2024
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负责人:植田 和茂
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依托单位:
ワイドギャップ導電性カルコゲナイド及びオキシカルコゲナイドの合成
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批准号:13750772
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项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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资助金额:$1.41万
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财政年份:2001
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负责人:植田 和茂
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依托单位: