口臭原因への細菌学的・生化学的アプローチ〜科学的口臭予防への礎〜
细菌学和生化方法探寻口臭病因 ~ 科学预防口臭的基石 ~
基本信息
- 批准号:18890031
- 负责人:
- 金额:$ 1.75万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (Start-up)
- 财政年份:2006
- 资助国家:日本
- 起止时间:2006 至 2007
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
口臭の主な原因は口腔細菌の代謝産物によるものが大部分であると考えられるが、中でも口腔Veillonellaが口臭発生部位である舌苔中の主な硫化水素産生菌の一つであることを報告してきた(Washio J et al.,2005)。Veillonella属は口腔常在細菌の一つであり、システインやシステイン含有ペプチドなどからH_2Sを産生することで口臭の一因を担うと考えられる。また、Veillonella属は乳酸をエネルギー源として利用する。乳酸はStreptococcus属などが糖を代謝することで産生され、口腔内に多く存在すると考えられ、これらの乳酸をVeillonellaが利用していると考えられている。従って実際に、Veillonellaがシステインを代謝する環境中には、同時に乳酸が多く存在することが考えられる。そこで、環境中の乳酸がVeillonella属のH_2S産生能に影響を及ぼすのか検討を行った。Veillonella属によるH_2S産生量は酸性より中性付近の方が多くなったが、乳酸ナトリウム存在下ではH_2S産生量がさらに4.5〜23.7倍に増加した。また、粗酵素抽出液にシステインを加えるとH_2Sを産生し、その産生量はpH5よりもpH7の方が多かったが、乳酸ナトリウムはH_2S産生に影響しなかった。これらより、実際の口腔では、舌苔中のpHだけではなく乳酸濃度が、口臭レベルに影響する可能性が考えられた。この時、乳酸はVeillonella菌体内の酵素活性を直接活性化するのではなく、Veillonellaのシステイン取り込み系を促進する可能性が示唆された。
The main cause of halitosis is the metabolites of oral bacteria, most of which are produced by oral Veillonella, the main cause of halitosis is sulfate-producing bacteria in tongue coating (Washio J et al., 2005)。Veillonella is a common oral bacteria, which contains a variety of H_2S and is responsible for halitosis. Veillonella belongs to lactic acid production and utilization. Lactic acid is produced by Streptococcus and is widely used in the oral cavity. In the environment, Veillonella is metabolized, and lactic acid is present. The influence of lactic acid in environment on H_2S production of Veillonella species and its related research were discussed. The amount of H_2S produced by Veillonella species increased by 4.5 ~ 23.7 times in the presence of acid or neutral. H_2S production is affected by the increase of H_2S production in crude enzyme extract solution and the increase of H_2S production in pH5 and pH7. The possibility of lactic acid concentration and halitosis in oral cavity and tongue coating is examined. At this time, it is possible that lactic acid can directly activate the enzyme activity in Veillonella bacteria and promote the biosynthesis system of Veillonella.
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Effects of pH and lactate on the production of hydrogen sulfide by oral Veillonella
pH 值和乳酸对口腔韦荣球菌产生硫化氢的影响
- DOI:
- 发表时间:2007
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Ayako Yamada;Yuki Nakamura;Daigo Sugita;Shinya Shirosaki;Tadahiro Ohkuri;Hideo Katsukawa;Kazuaki Nonaka;Toshiaki Imoto;Yuzo Ninomiya;Haruaki Hayasaki et al.;Noriko MURAOKA et al.;Noboru Yamaguchi et al.;Ieyoshi Kobayashi et al.;Satoshi FUKUMOTO et al.;Yoshizawa S et al.;岡田祐佳 他;Shimizu K;Shimonishi M;Sato R;Shimonishi M;Sato R;Nakajo K;Miyasawa-Hori H;Mitani H;佐藤充太;Miyasawa-Hori H;Nakajo K;Washio J;Maehara H;Yamaura M;鷲尾純平;鷲尾純平;Washio J
- 通讯作者:Washio J
The Hydrogen sulfide production by Oral Veillonella : effects of substrate and environmental pH
口腔韦荣球菌产生硫化氢:底物和环境 pH 值的影响
- DOI:
- 发表时间:2007
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Tanda N;et al.;J.Washio
- 通讯作者:J.Washio
舌苔と口臭―舌苔常在細菌の口臭産生への関与―
舌苔和口臭:舌苔中存在的细菌参与产生口臭。
- DOI:
- 发表时间:2007
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:鷲尾純平;佐藤拓一;4名中2番目;高橋信博;4名中4番目
- 通讯作者:4名中4番目
舌苔構成細菌と口臭―舌苔常在菌による口臭の産生―
构成舌苔和口臭的细菌 - 舌苔中的细菌产生口臭 -
- DOI:
- 发表时间:2007
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:鷲尾純平;高橋信博;2名中2番目
- 通讯作者:2名中2番目
口腔環境中の乳酸はVeillonellaの硫化水素産生を促進する
口腔环境中的乳酸促进韦荣球菌产生硫化氢
- DOI:
- 发表时间:2007
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Ayako Yamada;Yuki Nakamura;Daigo Sugita;Shinya Shirosaki;Tadahiro Ohkuri;Hideo Katsukawa;Kazuaki Nonaka;Toshiaki Imoto;Yuzo Ninomiya;Haruaki Hayasaki et al.;Noriko MURAOKA et al.;Noboru Yamaguchi et al.;Ieyoshi Kobayashi et al.;Satoshi FUKUMOTO et al.;Yoshizawa S et al.;岡田祐佳 他;Shimizu K;Shimonishi M;Sato R;Shimonishi M;Sato R;Nakajo K;Miyasawa-Hori H;Mitani H;佐藤充太;Miyasawa-Hori H;Nakajo K;Washio J;Maehara H;Yamaura M;鷲尾純平
- 通讯作者:鷲尾純平
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