High-quality single-crystal growth and the research of the electronic state of the filled-skutterudite compounds

填充方钴矿化合物的高质量单晶生长及电子态研究

基本信息

  • 批准号:
    20540358
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 3万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2008
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2008 至 2010
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

In this research, I have grown highr-quality single-crystals of the filled-skutterudites RT_4X_<12>(R=rare earth, T=Fe, Ru, Os, X=P, As, Sb) and the cage-structure compounds RT_2Al_<10> by using the flux-method and the high-pressure synthesis, and studied the electronic states by using the resistivity, magnetization, specific heat and the de Haas-van Alphen effect etc. As the result, we heve gained new information about the uncoventional magnetism and superconductivity in these compounds.
本研究采用助熔剂法和高压合成法生长了高质量的填充方钴矿RT_4X_<12>(R=稀土,T=Fe,Ru,Os,X=P,As,Sb)和笼状结构化合物RT_2Al_(10)单晶<10>,并利用电阻率、磁化强度、比热和de Haas-van Alphen效应等研究了它们的电子态,从而获得了这些化合物的非常规磁性和超导电性的新信息。

项目成果

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专利数量(0)
Heat capacity measurement of SmOs_4Sb_12 under high pressure
SmOs_4Sb_12高压热容测量
  • DOI:
  • 发表时间:
    2010
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    T.C.Kobayashi;Y.Kawasaki;K.Miyazawa;Y.Ikeda;S.Araki;H.Kotegawa;H.Sugawara;D.Kikuchi;H.Sato
  • 通讯作者:
    H.Sato
SmOs_4P_12のドハース・ファンアルフェン効果
SmOs_4P_12 的德哈斯-范阿尔芬效应
  • DOI:
  • 发表时间:
    2010
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    田中修平;迫田将仁;菅原仁;摂待力生;大貫惇睦
  • 通讯作者:
    大貫惇睦
Temperature evolution of crystal field splitting in PrOs_4P_12
PrOs_4P_12 中晶体场分裂的温度演化
  • DOI:
  • 发表时间:
    2009
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    K.Iwasa;K.Saito;Y.Murakami;H.Sugawara
  • 通讯作者:
    H.Sugawara
高圧合成により作製された高充填率CeFe_4Sb_12の電子輸送特性
高压合成高填充率CeFe_4Sb_12的电子输运性能
  • DOI:
  • 发表时间:
    2008
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    菅原仁;齊藤隆志;龍岡翔;田中謙弥;佐藤英行;Gerald Giester,Peter Rogl
  • 通讯作者:
    Gerald Giester,Peter Rogl
HANDBOOK OF MAGNETIC MATERIALS, VOLUME 18, Chapter 1, Magnetic Properties of Filled Skutterudites
磁性材料手册,第 18 卷,第 1 章,填充方钴矿的磁性
  • DOI:
  • 发表时间:
    2009
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    H.Sato;et al.
  • 通讯作者:
    et al.
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