Studies on Paramagnetic Species of Heavier Main Group Elements

重主族元素顺磁性物质的研究

• 批准号: 21350023
• 负责人: ICHINOHE Masaaki
• 金额: $ 12.73万
• 依托单位: University of Tsukuba
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
• 财政年份: 2009
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2009 至 2011
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-21350023/
• 关键词: 有機典型元素化学; 構造有機化学; 常磁性化学種; 多重項化学種; 開殻分子; 高周期典型元素; シリルラジカル; ビス(シリルラジカル); 高スピン分子; トリス(シリルラジカル); ジシラキノジメタン; 基底3重項分子

We succeeded synthesizing and isolating of stable multiplet oligo (silyl radical) s which have two and three silyl radical moieties on 1, 3-positions and 1, 3, 5-positions of benzene ring, respectively. The molecular structures of oligo (silyl radical) s were determined by X-ray crystallography. Furthermore, we also synthesized the silylene cation radicals stabilized by cyclic diaminocarbene coordination, and their molecular structures were determined by X-ray crystallography.

我们成功地合成并分离了苯环上1,3位和1,3,5位上分别有2个和3个硅基基团的稳定多聚低聚物（硅基自由基）。用x射线晶体学测定了低聚（硅基）自由基的分子结构。此外，我们还合成了由环二氨基羰基配位稳定的硅烯离子自由基，并通过x射线晶体学对其分子结构进行了表征。

项目成果

アルキルチオ置換ジシレンとアルコール及びフェノールとの反応

烷硫基取代的二烯与醇和酚的反应

• 发表时间: 2011
• 作者: Tohru Oishi;et al.;山口貴大
• 通讯作者: 山口貴大

アリール基を導入したシリルラジカルの合成、構造及び反応性

引入芳基的甲硅烷基的合成、结构和反应性

• 发表时间: 2010
• 作者: Keiichi Konoki;et al.;Hirohisa Ohmiya;平加奈子
• 通讯作者: 平加奈子

シクロトリシレンとイソシアニドの反応による新規な含ケイ素不飽和環状化合物の合成

环三烯与异氰化物反应合成新型含硅不饱和环状化合物

• 发表时间: 2010
• 作者: X.-D. Jiang;Y. Yamamoto;小林潤司（分担執筆）;大森悠
• 通讯作者: 大森悠

Reactivity of Disilyne toward Nitriles, Silylcyanides, and Isocyanides

二硅烷对腈、甲硅烷基氰化物和异氰化物的反应性

• 发表时间: 2010
• 作者: M.P.Kato;T.Sakai;K.Tanaka;加藤誠;Katsuhiko Takeuchi;Katsuhiko Takeuchi;Katsuhiko Takeuchi;Katsuhiko Takeuchi;竹内勝彦;竹内勝彦;竹内勝彦;Katsuhiko Takeuchi;Katsuhiko Takeuchi
• 通讯作者: Katsuhiko Takeuchi

The hexasiladigermacubane dianion

• DOI: 10.1002/aoc.1688
• 发表时间: 2010-12-01
• 期刊: APPLIED ORGANOMETALLIC CHEMISTRY
• 影响因子: 3.9
• 作者: Lee, Vladimir Ya.;Takanashi, Kazunori;Sekiguchi, Akira
• 通讯作者: Sekiguchi, Akira