高功率极紫外光 (EUV) 材料烧蚀研究-猫眼课题宝

高功率极紫外光 (EUV) 材料烧蚀研究

批准号：

22340172

负责人：

NISHIMURA Hiroaki

金额：

$10.98万

依托单位：

Osaka University

依托单位国家：

日本

项目类别：

Grant-in-Aid for Scientific Research (B)

财政年份：

2010

资助国家：

日本

项目状态：

已结题

起止时间：

2010 至 2012

来源：

https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-22340172/

关键词：

極端紫外(EUV)光源 EUV アブレーション WDM 物理レーザープラズマ光源極端紫外（EUV）光源 EUVアブレーション WDM物理極紫外(EUV)光源

中文摘要

翻译

建立了由激光产生的强极紫外光引起的材料烧蚀实验数据库，用于研究能量输运、材料状态变化和流体力学运动。利用这些结果，研究了膨胀羽流材料合成和微加工替代传统脉冲激光沉积（PLD）的可能性。

英文摘要

Experimental database of material ablation caused by an intense extreme ultra-violet (EUV) light generated by laser has been constructed to study energy transport, change in material states and hydrodynamic motions. By utilizing these results, possibility of material synthesizing with expanding plumes and micro-processing was investigated as substitution of conventional pulsed laser deposition (PLD).

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会议论文

Quantitative measurement of hard X-ray spectra from laser-driven fast ignition plasma

激光驱动快点火等离子体硬 X 射线光谱的定量测量

DOI： --

发表时间： 2013

期刊：

High Energy Density Physics

影响因子： 1.6

作者：

[Z. Zhang, H. Nishimura, T. Namimoto, S. Fujioka, Y. Arikawa, H. Nagatomo, M. Nakai, T. Ozaki, M. Koga, T. Johzaki, A. Sunahara, H. Chen, J. Park, G.J. Williams, H. Shiraga, S. Kojima, M. Nishikino, T. Kawachi, 他7名]

通讯作者：他7名

レーザー生成 6.7nm 光源用ガドリニウムターゲットの供給法に関する研究

激光6.7nm光源钆靶材供应方法研究

DOI： --

发表时间： 2012

期刊：

影响因子： --

作者：

[鵜篭照之, 藤岡慎介, 西村博明]

通讯作者：西村博明

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DOI： --

发表时间：

期刊：

影响因子： --

作者：

[]

通讯作者：

Efficient multi-keV x-ray generation from a high-Z target irradiated with a clean ultra-short laser pulse.

DOI： 10.1364/oe.19.004560

发表时间： 2011-02

期刊：

Optics express

影响因子： 3.8

作者：

[Zhe Zhang;M. Nishikino;Hiroaki Nishimura;T. Kawachi;A. Pirozhkov;A. Sagisaka;Satoshi Orimo;Koichi Ogura;A. Yogo;Y. Okano;S. Ohshima;S. Fujioka;H. Kiriyama;Kotaro Kondo;T. Shimomura;S. Kanazawa]

通讯作者： Zhe Zhang;M. Nishikino;Hiroaki Nishimura;T. Kawachi;A. Pirozhkov;A. Sagisaka;Satoshi Orimo;Koichi Ogura;A. Yogo;Y. Okano;S. Ohshima;S. Fujioka;H. Kiriyama;Kotaro Kondo;T. Shimomura;S. Kanazawa

Two-Facing Irradiation of Laser Pulses to Suppress Position Shift of Expanded Tin Microsphere for Extreme Ultraviolet Light Source

激光脉冲双面照射抑制极紫外光源膨胀锡微球位置偏移

DOI： --

发表时间： 2011

期刊：

Applied Physics Express

影响因子： 2.3

作者：

[Yuji Matsuoka, Shinsuke Fujioka, Hiroaki Nishimura]

通讯作者： Hiroaki Nishimura