In-situ Ferromagnetische Resonanz und Magnetometrie an epitaktischen Fe/Halbleitergrenzflächen (A09)
In-situ Ferromagnetische Resonanz und Magnetometrie an epitaktischen Fe/Halbleitergrenzflächen (A09)
外延铁/半导体界面的原位铁磁共振和磁力测量 (A09)
批准号：
5398486
负责人：
金额：
$0.0万
依托单位国家：
德国
项目类别：
Collaborative Research Centres
财政年份：
2003
资助国家：
德国
项目状态：
已结题
起止时间：
2002-12-31 至 2010-12-31
中文摘要
翻译
本文对超高压铁氧体/顺磁材料的原位磁化响应和原位磁化设备的静态和动态磁性参数进行了研究，提出了一种新的磁学参数--Fe3SiSchichten和CrSb铁磁材料。在Fe_3Si工业中实现了Mittels“原子工程学”von(Fe/FeSi)N/Fe/Pt多元溶胶。
英文摘要
Mittels der weltweit einzigen in situ UHV ferro/paramagnetischen Resonanz und in-situ SQUID–Magnetometrie Apparatur sollen statische und dynamische magnetische Parameter nach Mikrowellenanregung sowohl von epitaktisch gewachsenen Heusler-artigen Fe3Si Schichten und ferromagnetischen CrSb Monolagen auf verschiedenen Halbleiter Einkristallen (GaAs, ZnSe, InAs) mit Gitterfehlanpassungen im Bereich von 0 -7% als auch von magneto-elektrischen Nanokompositen quantitativ bestimmt werden. Mittels „atomic engineering“ von (Fe/FeSi)N/Fe/Pt Multilagen soll eine senkrechte Magnetisierung in Fe3Si induziert werden.
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