Development of Stress Relaxation probe microscopy for Nanorheology Mapping

用于纳米流变图绘制的应力松弛探针显微镜的开发

• 批准号: 22750195
• 负责人: FUJINAMI So
• 金额: $ 2.75万
• 依托单位: Tohoku University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
• 财政年份: 2010
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2010 至 2012
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-22750195/
• 关键词: 応力緩和; 粘弾性; ゴム弾性; 原子間力顕微鏡; ゴム材料; 高分子構造・物性; 高分子材料物性

Based on atomic force microscopy (AFM), I have developed “AFM load relaxation measurement technique," in which an AFM probe is pushed on a sample surface and then kept the position so that the relaxing load is measured. I fulfilled quantitative measurement of therelaxation behavior of elastic materials caused by viscoelasticity and adhesion of the surface. I also extended the system to mapping measurement so that the distribution of viscoelasticity can be visualized on nanoscale lateral resolution. The mapping system showed the capability of application to evaluate the nanomechanical properties of elastomer composite materials.

基于原子力显微镜（AFM），我开发了“AFM负载松弛测量技术”，其中AFM探针被推到样品表面，然后保持该位置，以便测量松弛负载。完成了弹性材料在粘弹性和表面粘附作用下的松弛行为的定量测量。我还将系统扩展到测绘测量，以便粘弹性的分布可以在纳米级横向分辨率上可视化。该测绘系统在弹性体复合材料纳米力学性能评价中具有一定的应用价值。

项目成果

Viscoelasticity and Adhesion, Extended JKR theory in Force Measurement

粘弹性和粘附力，力测量中的扩展 JKR 理论

• 发表时间: 2011
• 作者: 藤波想;中嶋健;西俊夫;藤波想;藤波想
• 通讯作者: 藤波想

原子間力顕微鏡を用いた粘弾性の高分解能測定手法4

使用原子力显微镜的高分辨率粘弹性测量方法4

• 发表时间: 2010
• 作者: So Fujinami;Dong Wang;Hao Liu;Ken Nakajima;Toshio Nishi;藤波想
• 通讯作者: 藤波想

高分子表面のナノレオロジー[IX]-周波数依存性

聚合物表面的纳米流变学 [IX]-频率依赖性

• 发表时间: 2011
• 作者: 藤波想;中嶋健;西俊夫;藤波想;藤波想;藤波想;藤波想
• 通讯作者: 藤波想

フォースボリュームモードAFMによるナノ力学物性測定とその表面物性評価への応用[IV]

力体积模式AFM纳米力学性能测量及其在表面性能评估中的应用[IV]

• 发表时间: 2010
• 作者: So Fujinami;Dong Wang;Hao Liu;Ken Nakajima;Toshio Nishi;藤波想;藤波想
• 通讯作者: 藤波想

Viscoelasticity Analysis of Elastomer Blend Using Force Measurements of Atomic Force Microscope

• DOI: 10.1295/koron.69.435
• 发表时间: 2012-07
• 期刊: Kobunshi Ronbunshu
• 作者: S. Fujinami;K. Nakajima;T. Nishi