Development of high stability and high reliability GEM by the conductive polymer coating
Development of high stability and high reliability GEM by the conductive polymer coating
采用导电聚合物涂层开发高稳定性、高可靠性的GEM
批准号：
23540354
负责人：
SEIICHI Nakamura
金额：
$1.0万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2011
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2011-04-28 至 2015-03-31
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MPGDのための導電性素探索 III /REGEMの実用化に向けて
MPGD III 的传导性基本搜索/REGEM 的实际应用
MPGD III 的传导性基本搜索/REGEM 的实际应用
DOI：
--
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
--
作者：
[T. Aso, W. Takase, G. Iwai, T. Sasaki, Y. Watase, Y. Maeda, T. Yamashita, T. Akagi, H. Shuuichi, T. Nishio, S.Y. Cai, T.C. Chao, E. Yen, T.H. Wu, Y.T. Lin, 郡 和範, 中村誠一，上原秀雄，幅淳二]
通讯作者：
中村誠一，上原秀雄，幅淳二
Electro conductive polymer complex PEDOT/PSS to be coated on film for RE-GEM
导电聚合物复合物 PEDOT/PSS 将涂覆在 RE-GEM 薄膜上
导电聚合物复合物 PEDOT/PSS 将涂覆在 RE-GEM 薄膜上
DOI：
--
发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
--
作者：
[S. Nakamura( KEK ), H. Uehara ( RAYTECH-inc. ), J. Haba ( KEK )]
通讯作者：
J. Haba ( KEK )
特許文献による 導電性高分子コーティング（Ⅳ） /REGEMに向けて － レーザ加工 ー
导电聚合物涂层 (IV) / 根据专利文献走向 REGEM - 激光加工 -
导电聚合物涂层 (IV) / 根据专利文献走向 REGEM - 激光加工 -
DOI：
--
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
--
作者：
[田中一幸, 神田展行, 田越秀行, KAGRA collaboration, 郡 和範, 山県民穂, 中村誠一，上原秀雄，幅淳二]
通讯作者：
中村誠一，上原秀雄，幅淳二
特許文献による導電性高分子コーティング（III)/REGEMに向けて～レーザ加工～
根据专利文献〜激光加工〜的导电聚合物涂层（III）/REGEM
根据专利文献〜激光加工〜的导电聚合物涂层（III）/REGEM
DOI：
--
发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[T. Fukuda, S. Fukunaga, H. Ishida, K. Kodama, T. Matsuo, S. Mikado, S. Ogawa, H. Shibuya, J. Sudo, 中村誠一，上原秀雄，幅淳二]
通讯作者：
中村誠一，上原秀雄，幅淳二
MPGDのための導電性素探索 /REGEMの実用化に向けて
寻找 MPGD 的导电元件/走向 REGEM 的实际应用
寻找 MPGD 的导电元件/走向 REGEM 的实际应用
DOI：
--
发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[神田展行, 田中一幸, 中村誠一，上原秀雄，幅淳二]
通讯作者：
中村誠一，上原秀雄，幅淳二
共 7 条