On the geometric evolution equations described by the 4th order parabolic partial differential equations

关于四阶抛物型偏微分方程描述的几何演化方程

• 批准号: 24540200
• 负责人: Kohsaka Yoshihito
• 金额: $ 3.33万
• 依托单位: Kobe University (2014-2016)Muroran Institute of Technology (2012-2013)
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2012
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2012-04-01 至 2017-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-24540200/
• 关键词: 表面拡散方程式; ドロネー曲面; 楕円積分; 平均曲率一定曲面; 分岐解析; 曲面の発展方程式; Willmore流方程式; 4階放物型偏微分方程式

项目成果

Stability analysis of steady states for surface diffusion equation

表面扩散方程稳态稳定性分析

• 发表时间: 2016
• 作者: J. S. Read;L. Baiotti;J. D. E. Creighton;J. L. Friedman;B. Giacomazzo;K. Kyutoku;C. Markakis;L. Rezzolla;M. Shibata;K. Taniguchi;小谷 元子;高坂良史
• 通讯作者: 高坂良史

Mathematics for Nonlinear Phenomena: Analysis and Computation

• DOI: 10.1007/978-3-319-66764-5
• 发表时间: 2017
• 作者: S. Jimbo;S. Goto;Y. Kohsaka;H. Kubo;Yasunori Maekawa;M. Ohnuma

表面拡散方程式の定常解の安定性解析について

表面扩散方程稳态解的稳定性分析

• 发表时间: 2016
• 作者: 森康浩・大沼進;高坂良史
• 通讯作者: 高坂良史

Analysis of stability of the CMC surfaces via the geometric flow with constraints

通过带约束的几何流分析 CMC 表面的稳定性

• 发表时间: 2015
• 作者: K.Abe;T.Kobayashi;T.Hasegawa;T.Nakadaira;K.Sakashita;M.Shibata 他;Y. Sekiguchi;Takashi Shioya;安東 正樹;高坂 良史
• 通讯作者: 高坂 良史

On an interfacial motion by surface diffusion

表面扩散引起的界面运动

• 作者: 佐藤恒司;中村孝秋;倉見谷航洋;須田雄太;幸村雄介;関口雄平;小坂英男;高坂良史
• 通讯作者: 高坂良史