Synthesis of graphitic carbon nitride films and the evaluation as a semiconductor material
石墨氮化碳薄膜的合成及其作为半导体材料的评价
基本信息
- 批准号:15K06005
- 负责人:
- 金额:$ 3.16万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2015
- 资助国家:日本
- 起止时间:2015-04-01 至 2020-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
グラファイト状窒化炭素薄膜の電気伝導特性の観測
石墨氮化碳薄膜导电性能的观察
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:青山 宏明;安田 和史;羽渕 仁恵;飯田 民夫;滝川 浩史
- 通讯作者:滝川 浩史
Optical properties of graphitic carbon nitride films prepared by evaporation
- DOI:10.1016/j.diamond.2016.02.008
- 发表时间:2016-05
- 期刊:
- 影响因子:4.1
- 作者:Shiori Fujita;Hitoe Habuchi;Shunsaku Takagi;H. Takikawa
- 通讯作者:Shiori Fujita;Hitoe Habuchi;Shunsaku Takagi;H. Takikawa
層状窒化炭素化合物のNEXAFSスペクトル(2)
层状氮化碳化合物的 NEXAFS 谱图 (2)
- DOI:
- 发表时间:2017
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:岡島 敏浩;瀬戸山 寛之;吉村 大介;羽渕 仁恵;財部 健一
- 通讯作者:財部 健一
グラファイト状窒化炭素薄膜の合成温度と光学ギャップ
石墨氮化碳薄膜的合成温度和光学间隙
- DOI:
- 发表时间:2017
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:羽渕 仁恵;青山 宏明;安田 和史;滝川 浩史
- 通讯作者:滝川 浩史
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