Evaluation of photoluminescence properties of lanthanide-ion-doped perovskite-type oxide phosphors with regard to doping sites

稀土离子掺杂钙钛矿型氧化物荧光粉的光致发光性能评价

基本信息

  • 批准号:
    16K06724
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 3.08万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2016
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2016-10-21 至 2019-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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专利数量(0)
Ln3+ 4f Energy Levels in CaTiO3 Analyzed by XPS Measurements
  • DOI:
    10.1002/pssa.201700776
  • 发表时间:
    2019-03
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    R. Yamamoto;Kazushige Ueda
  • 通讯作者:
    R. Yamamoto;Kazushige Ueda
ダブルペロブスカイト型酸化物におけるBサイト占有Tb3+の発光
双钙钛矿氧化物中 B 位占据 Tb3+ 的发光
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    (九州工業大学) ○植田和茂・清水雄平・谷延男哉・田中就斗・山本稜;(JASRI)本間徹生
  • 通讯作者:
    (JASRI)本間徹生
XPS測定によるCaMO3(M=Ti, Zr, Sn)中の希土類イオン4f軌道のエネルギー準位の解析
通过XPS测量分析CaMO3(M=Ti、Zr、Sn)中稀土离子4f轨道的能级
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    K. Ueda;Y. Shimizu;(九州工業大学) ○植田 和茂・田中 就斗・(JASRI) 本間 徹生;(九州工業大学) ○田中 就斗・植田 和茂;(九州工業大学) ○山本 稜・植田 和茂
  • 通讯作者:
    (九州工業大学) ○山本 稜・植田 和茂
Institut des Materiaux Jean Rouxel (IMN)/Universite de Nantes/CNRS(France)
Institut des Materiaux Jean Rouxel (IMN)/南特大学/CNRS(法国)
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
A2LaTaO6 (A=Ca, Ba):Tb3+中のBサイト占有Tb3+の発光
A2LaTaO6 (A=Ca, Ba):Tb3+中B位点占据Tb3+的发光
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    (九州工業大学) ○植田和茂・清水雄平・谷延男哉・田中就斗・山本稜;(JASRI)本間徹生;九工大工1,JASRI2 ○植田和茂1,清水雄平1,谷延男哉1,田中就斗1,山本稜1,本間徹生2
  • 通讯作者:
    九工大工1,JASRI2 ○植田和茂1,清水雄平1,谷延男哉1,田中就斗1,山本稜1,本間徹生2
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  • 影响因子:
    0
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  • 通讯作者:
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  • 影响因子:
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  • DOI:
  • 发表时间:
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  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Zhang Zu;Dai Wen;K. Maki;Hisato Yasui;Kazushige Ueda;Makoto Haruoka;M. Kimura
  • 通讯作者:
    M. Kimura
Pr3+-Gd3+共添加LaLuO3の発光とサイト別エネルギー移動
Pr3+-Gd3+共掺杂LaLuO3的发光和位点特异性能量转移
  • DOI:
  • 发表时间:
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  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Kazushige Ueda;Ryo Yamamoto;Yuhei Shimizu;永野恭祐,植田和茂
  • 通讯作者:
    永野恭祐,植田和茂
Ce3+-Tb3+共添加ペロブスカイト型LaLuO3のサイト別蛍光評価
Ce3+-Tb3+共掺杂钙钛矿LaLuO3的位点荧光评估
  • DOI:
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Kazushige Ueda;Ryo Yamamoto;Yuhei Shimizu;永野恭祐,植田和茂;尾方龍彦,植田和茂;永島彰一郎,植田和茂,小俣孝久;永島彰一郎,植田和茂
  • 通讯作者:
    永島彰一郎,植田和茂

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