Stereo-lithography of silicon carbide slurry contained with sintering aid.
Stereo-lithography of silicon carbide slurry contained with sintering aid.
批准号:
16K06796
负责人:
Sakurada Osamu
金额:
$3.08万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2016
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2016-04-01 至 2019-03-31
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紫外線硬化樹脂を用いた立体造形用炭化ケイ素スラリーの調製
紫外光固化树脂三维造型用碳化硅浆料的制备
DOI:
--
发表时间:
2018
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Chengwai Yao, Yasuyuki Miyano, Kodama Yuta , Yamada Ryoma, 東 総介,尾畑成造,吉田道之,櫻田 修]
通讯作者:
東 総介,尾畑成造,吉田道之,櫻田 修
Dispersion and Fluidity of Thick SiC UV Curable Resin Slurry for Stereo-Lithography
立体光刻用厚碳化硅紫外固化树脂浆料的分散性和流动性
DOI:
--
发表时间:
2018
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Sosuke Azuma, Seizo Obata, Michiyuki Yoshida, Osamu Sakurada]
通讯作者:
Osamu Sakurada
Fabrication of High Solid Loading Silicon Carbide Slurry Using UV Curable Resin
使用紫外光固化树脂制备高固含量碳化硅浆料
DOI:
10.4164/sptj.54.576
发表时间:
2017
期刊:
Journal of the Society of Powder Technology, Japan
影响因子:
--
作者:
[Obata Seizo, Azuma Sosuke, Tateishi Kenji, Shinoda Yasuhiro, Yoshida Michiyuki, Sakurada Osamu]
通讯作者:
Sakurada Osamu
光造形のための紫外線硬化樹脂を用いた炭化ケイ素スラリーの作製とその応用
光固化紫外固化树脂碳化硅浆料的制备及其应用
DOI:
--
发表时间:
2018
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Sosuke Azuma, Seizo Obata, Michiyuki Yoshida, Osamu Sakurada, 東 総介,尾畑成造,吉田道之,櫻田 修]
通讯作者:
東 総介,尾畑成造,吉田道之,櫻田 修
非水濃厚炭化ケイ素スラリーの分散制御とその応用
非水浓缩碳化硅浆料的分散控制及其应用
DOI:
--
发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
--
作者:
[尾畑成造,東総介, 立石賢司,吉田道之,櫻田]
通讯作者:
尾畑成造,東総介, 立石賢司,吉田道之,櫻田
共 9 条
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