VGF-Einkristallzüchtung unter dem Einfluss externer Magnetfelder (B 07)

Das Ziel des Vorhabens besteh in der system schen Erproung and Verbeserung der im biisherigen Projektverlaf entwickelten VGF-Magnetfeld-Technologie zur Zur Züchtung von einkristallinen Halbleitern Ungierten strömungsbedingungen.大足新技术研究中心是一家高科技企业。Eine groüe Bedeutung bezzen dabe auch Neue Verfahren and Methoden，Wie z B.die Anwendung zeitmodierter Feld and die in bit-Messung der Strömungsgseschwindigkeit in der Schmeze，die erstmals be der Einkristallzüchttung eingesetzt en Sollen。

Das Ziel des Vorhabens besteht in der systematischen Erprobung und Verbesserung der im bisherigen Projektverlauf entwickelten VGF-Magnetfeld- Technologie zur Züchtung von einkristallinen Halbleitern unter optimierten Strömungsbedingungen. Dazu sind umfangreiche Studien zu den Einsatzmöglichkeiten und –grenzen der Technologie geplant. Eine große Bedeutung besitzen dabei auch neue Verfahren und Methoden, wie z. B. die Anwendung zeitmodulierter Felder und die in situ-Messung der Strömungsgeschwindigkeit in der Schmelze, die erstmals bei der Einkristallzüchtung eingesetzt werden sollen.