ｓｐ２ケイ素のボトムアップ技術によるヘキサシラベンゼンの合成

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本研究では、sp2ケイ素のボトムアップ技術を開拓することによって、未だ合成が達成されていない夢化合物である「ヘキサシラベンゼン」を安定な化合物として合成・単離する。合成したヘキサシラベンゼンは、分子構造や電子状態について実験化学および理論化学によって調査し、結合電子に由来する特異な物性や芳香族性の有無、その反応性について探究することを目的とする。平成２９年度は、強いルイス塩基である「N－ヘテロ環状カルベン（NHC）」の配位により安定化されたケイ素の二価化学種（シリレン）の誘導体について調査した。Eind 基を有する「ジブロモジシレン」と NHCとの反応では、NHCの種類に応じてブロモシリレン・NHCモノ付加体とシリリウムイリデン・NHCビス付加体が選択的に生成した。別途合成法として、Eind基を有するジブロモヒドロシランのNHCによる脱臭化水素化反応により、ブロモシリレン・NHCモノ付加体とシリリウムイリデン・NHCビス付加体が生成した。さらに、モノクロロジヒドロシラン とNHCにより脱塩化水素化することで、ヒドロシリレンNHC付加体が生成することを明らかにした。また、ジブロモジゲルメンとフェニルリチウムとの反応により、ジフェニルジゲルメンを合成・単離した。この化合物は固体状態では空気中で安定である。同様に1-ナフチル基や2-ナフチル基を有するジナフチルジゲルメンを合成し、その共役について明らかにした。これらのジゲルメン化合物は、溶液中でもGe=Ge二重結合を保持しているとともに、ジゲルメンと２つの芳香環が共役していることが紫外可視吸収スペクトルおよびDFT計算により明らかとなった。さらに、平成２９年度は、sp2ゲルマニウムが２つ連結した「ジハロジゲルメン」がゲルマニウム四員環化合物「テトラゲルマシクロブタジエン」の合成前駆体として鍵化合物であることが明らかとなった。