Elucidation of Mechanisms of Hydrogen Co-deposition and Hydrogen-Induced Phenomena in Electrochemical Deposition

电化学沉积中氢共沉积和氢诱导现象的机理阐明

基本信息

  • 批准号:
    17K06864
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.83万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2017
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2017-04-01 至 2020-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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专利数量(0)
Atomistic State of Absorbed Hydrogen in Electrodeposited Platinum Films
电沉积铂膜中吸收氢的原子态
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    T. Kinoshita;A. Yokoyama;A. Matsumoto;N. Fukumuro;S. Yae
  • 通讯作者:
    S. Yae
電気化学的手法によって合成した超化学量論的水素化物 PdHx≦2の結晶構造
电化学法合成的超化学计量氢化物PdHx≤2的晶体结构
  • DOI:
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    福室直樹;深井 有;杉本秀彦;石井 靖;齋藤寛之;八重真治
  • 通讯作者:
    八重真治
無電解Ni/Pd/Auの厚膜パラジウム条件下でのはんだ接合合金層の解析
厚膜钯条件下化学镀 Ni/Pd/Au 焊点合金层分析
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    小田幸典;福室直樹,八重真治
  • 通讯作者:
    福室直樹,八重真治
高圧力下における無電解ニッケル-リンめっきの反応機構
高压化学镀镍磷反应机理
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    T. Yamamoto;M. Tayakout-Fayolle;T. Kakibe;H. Satone;K. Iimura;K. Itoh;K. Maeda;横濱大空,Tayakout-Fayolle Melaz,福室直樹,八重真治,伊藤和宏,前田光治,山本拓司
  • 通讯作者:
    横濱大空,Tayakout-Fayolle Melaz,福室直樹,八重真治,伊藤和宏,前田光治,山本拓司
兵庫県立大学大学院工学研究科化学工学専攻表面エネルギー化学研究グループ
兵库大学大学院工学研究科化学工程系表面能化学研究组
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
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Naoki Fukumuro其他文献

New Surface-Activation-Process for Electroless Deposition of Adhesive Metal (Ni, Cu) Films on Si Substrates
用于在硅基板上化学沉积粘性金属(镍、铜)薄膜的新表面活化工艺
  • DOI:
  • 发表时间:
    2011
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Shinji Yae;Keisuke Sakabe;Naoki Fukumuro;Susumu Sakamoto;Hitoshi Matsuda
  • 通讯作者:
    Hitoshi Matsuda
New Surface-Activation-Process for Electroless Deposition of Adhesive Metal (Ni,Cu) Films on Si Substrates
用于在硅基板上无电镀沉积粘性金属(Ni,Cu)薄膜的新表面活化工艺
  • DOI:
  • 发表时间:
    2011
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Shinji Yae;Keisuke Sakabe;Naoki Fukumuro;Susumu Sakamoto;Hitoshi Matsuda;Shinji Yaw;Masayuki Tashiro;Shinji Yae
  • 通讯作者:
    Shinji Yae
Influence of Displacement Reaction on Electrodeposition of Noble Metal Particles on Silicon
置换反应对贵金属颗粒在硅上电沉积的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2010
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Shinji Yae;Megumi Kawai;Takashi Matsuda;Naoki Fukumuro;Hitoshi Matsuda
  • 通讯作者:
    Hitoshi Matsuda
Solar to Chemical Conversion Using Metal Nanoparticle Modified Low-Cost Silicon Photoelectrode, in Solar Cells/Book 4
在太阳能电池中使用金属纳米颗粒改性低成本硅光电极将太阳能转化为化学物质/第 4 册
  • DOI:
  • 发表时间:
    2011
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Shinji Yae;Naoki Fukumuro;Susumu Sakamoto;Hitoshi Matsuda;Shinji Yae;天野忠昭;Shinji Yae
  • 通讯作者:
    Shinji Yae
Ch. 4, Porous Silicon Formation by Metal Particle Enhanced HF Etching, in Electroanalytical Chemistry Research Trends
章。
  • DOI:
  • 发表时间:
    2009
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Shinji Yae;Naoki Fukumuro;Hitoshi Matsuda
  • 通讯作者:
    Hitoshi Matsuda

Naoki Fukumuro的其他文献

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  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 2.83万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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  • 批准号:
    24K08591
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 2.83万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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