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Feasibility of using ion implantation to improve the efficiency and beam quality of micro-pixelated linear arrays for maskless lithography
使用离子注入提高无掩模光刻微像素化线性阵列效率和光束质量的可行性
基本信息
- 批准号：131345
- 负责人：
- 金额：$ 3.18万
- 依托单位：
- 依托单位国家：英国
- 项目类别：Feasibility Studies
- 财政年份：2013
- 资助国家：英国
- 起止时间：2013 至 无数据
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
This project considers the feasibility of applying the established technique of ion-implantation of semiconductors in a novel way - to improve the performance of a microLED array. The array performance will be improved in both the spatial quality of light emitted and the wall-plug efficiency. A successful outcome will allow mLED to target new customer applications and access part of a $6billion market.
该项目考虑了以一种新的方式应用已建立的半导体离子注入技术的可行性--提高微型LED阵列的性能。阵列的性能将在发射光的空间质量和壁塞效率方面得到改善。成功的结果将使mLED能够瞄准新的客户应用，并进入60亿美元市场的一部分。
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
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