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Feasibility of using ion implantation to improve the efficiency and beam quality of micro-pixelated linear arrays for maskless lithography

Feasibility of using ion implantation to improve the efficiency and beam quality of micro-pixelated linear arrays for maskless lithography
使用离子注入提高无掩模光刻微像素化线性阵列效率和光束质量的可行性
批准号：
131345
负责人：
金额：
$3.18万
依托单位：
MLED LIMITED
依托单位国家：
英国
项目类别：
Feasibility Studies
财政年份：
2013
资助国家：
英国
项目状态：
已结题
起止时间：
2013 至 --
来源：
https://gtr.ukri.org/projects?ref=131345
关键词：
Feasibilityusingionimplantationimprove

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项目成果

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This project considers the feasibility of applying the established technique of ion-implantation of semiconductors in a novel way - to improve the performance of a microLED array. The array performance will be improved in both the spatial quality of light emitted and the wall-plug efficiency. A successful outcome will allow mLED to target new customer applications and access part of a $6billion market.
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  • 批准号：
    52073127
  • 项目类别：
    面上项目
  • 资助金额：
    58.0万元
  • 批准年份：
    2020
  • 负责人：
    Alidad Amirfazli
  • 依托单位：
    江苏理工学院
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