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A fast non-contact lithographic technique for generating submicron 3D patterns

A fast non-contact lithographic technique for generating submicron 3D patterns
用于生成亚微米 3D 图案的快速非接触式光刻技术
批准号：
487859-2016
负责人：
Akbari, Amir
金额：
$1.64万
依托单位：
Massachusetts Institute of Technology
依托单位国家：
加拿大
项目类别：
Postdoctoral Fellowships
财政年份：
2018
资助国家：
加拿大
项目状态：
已结题
起止时间：
2018-01-01 至 2019-12-31
来源：
https://www.nserc-crsng.gc.ca/ase-oro/Details-Detailles_eng.asp?id=643609
关键词：
fastnoncontactlithographictechnique

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
界面不稳定性、光刻、控制、热毛细管力、Marangoni效应、表面图案化、高分辨率/吞吐量、微细加工、微型化电子和光学、聚合物薄膜
英文摘要
Interfacial instability, Lithography, Control, Thermocapillary force, Marangoni effect, Surface patterning, High resolution/throughput, Microfabrication, Miniaturized electronics and optics, Polymer film
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会议论文
A fast non-contact lithographic technique for generating submicron 3D patterns
  • 批准号：
    487859-2016
  • 项目类别：
    Postdoctoral Fellowships
  • 资助金额：
    $3.28万
  • 财政年份：
    2017
  • 负责人：
    Akbari, Amir
  • 依托单位：
    Massachusetts Institute of Technology
A fast non-contact lithographic technique for generating submicron 3D patterns
  • 批准号：
    487859-2016
  • 项目类别：
    Postdoctoral Fellowships
  • 资助金额：
    $1.64万
  • 财政年份：
    2016
  • 负责人：
    Akbari, Amir
  • 依托单位：
    Massachusetts Institute of Technology
国内基金
海外基金
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  • 批准年份：
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  • 批准年份：
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  • 依托单位：
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  • 批准年份：
    2023
  • 负责人：
    寻红卫
  • 依托单位：
    东北师范大学