课题基金基金详情
β-C3N4超硬膜电弧-射频等离子CVD合成
批准号：
59571047
项目类别：
面上项目
资助金额：
10.0 万元
负责人：
吴大维
依托单位：
武汉大学
学科分类：
E0103.金属材料使役行为与表面工程
结题年份：
1998
批准年份：
1995
项目状态：
已结题
项目参与者：
蔡凤鑫、刘昌、栗增、谢桂京、孟宪权、张志宏、石瑛、李世宁、邱进军
关键词：
等离子体源离子注入电弧射频CVD氧化碳
国基评审专家1V1指导 中标率高出同行96.8%
结合最新热点，提供专业选题建议
深度指导申报书撰写，确保创新可行
指导项目中标800+，快速提高中标率
客服二维码
微信扫码咨询
β-C3N4薄膜的离子注入及其发光特性研究
  • 批准号：
    19875037
  • 项目类别：
    面上项目
  • 资助金额：
    23.5万元
  • 批准年份：
    1998
  • 负责人：
    吴大维
  • 依托单位：
    武汉大学
国内基金
海外基金