超高记录密度薄膜磁介质的微结构与基本磁性的研究
批准号：
10174028
项目类别：
面上项目
资助金额：
21.0 万元
负责人：
魏福林
依托单位：
学科分类：
磁学及自旋电子学
结题年份：
2004
批准年份：
2001
项目状态：
已结题
项目参与者：
杨正、吴东平、白建民、李晓红、马云贵
项目摘要
结项摘要
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中文摘要
钐钴合金的高磁晶各向异性、使钐钴合金薄膜可做成新一代超高记录密度磁介质。薄膜中的晶粒应是纳米尺度并对晶粒间的交换耦合作用控制对实现超高密度记录极为关键。研究钐钴合金薄膜中磁性粒子互作用的特点、薄膜微结构与宏观磁性及记录特性的关系，对深入理解超高记录密度介质反磁化过程的机理、开发新型超高记录密度磁介质有重要的意义。
英文摘要
多层膜形态的铁钴合金薄膜结构与磁各向异性的研究
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批准号：10874060
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项目类别：面上项目
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资助金额：30.0万元
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批准年份：2008
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负责人：魏福林
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依托单位：
高饱和磁感应强度及良好高频特性的新型高性能软磁薄膜的研究
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批准号：60371016
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项目类别：面上项目
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资助金额：20.0万元
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批准年份：2003
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负责人：魏福林
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依托单位：
国内基金
海外基金