光能利用率低是限制水稻高产的关键因子。水稻适度卷叶，有利于提高光能利用率，是高光效育种的重要遗传资源。目前，已定位的卷叶基因多数表现两侧高度卷曲，有些甚至一因多效，同时控制窄叶、矮化等多个性状，应用起来较复杂。我们在EMS诱变的水稻突变体文库中，新发现了一个叶片仅表现一侧卷曲而另一侧完全正常的单侧卷叶突变体url2(t)，其叶绿素含量显著高于野生型，而其它性状无显著差异。与两侧卷曲相比，单侧卷曲更易控制卷曲度，因而作为宝贵的稀缺遗传资源，有必要深入研究。目前，尽管分子定位了14个水稻卷叶基因，但仅克隆了3个（ADL1、SLL1和NAL7）。隐性单侧卷叶基因URL2（t）位于第10染色体24.5Kb的区间内，候选基因为一氧化酶基因，不同于已报道的卷叶基因家族的新类型。因而克隆该基因，进而研究其功能，对于进一步解析水稻卷叶（特别是单侧卷曲）的分子机理及培育高光效新品种均具有重要的意义。